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公开(公告)号:CN200993927Y
公开(公告)日:2007-12-19
申请号:CN200620200912.4
申请日:2006-11-16
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
Inventor: 顾斌
IPC: H01H33/664 , H01H1/06
Abstract: 本实用新型公开了一种真空灭弧室用的新型触头,它包括凸触头(1)和凹触头(2),凸触头(1)和凹触头(2)均为圆柱体,凸触头(1)的一个端面为凸出形,凹触头(2)的一个端面为凹陷形,凸触头(1)和凹触头(2)成对使用,两个触头接触时,凸触头(1)的凸出伸入到凹触头(2)的凹陷中,并紧密接触。本实用新型在不增大真空灭弧室直径的情况下增大触头的接触面积,降低接触电阻,从而增大开断能力。有效的解决由两个相同的圆柱形平板触头对接所存在的体积大,接触面积小,同轴度差的问题。
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公开(公告)号:CN2409601Y
公开(公告)日:2000-12-06
申请号:CN99251785.0
申请日:1999-12-18
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
Inventor: 曾定勇
Abstract: 可以在线监控直空度的真空灭弧室,包括灭弧室(1)、电极(2)、真空腔体(3);电极(2)的下部开有与真空腔体(3)相通的气孔(4),上部装在线监控装置。监控装置包括壳体(5),环形磁钢(6),壳体(5)下部与气孔(4)相接,内有带点火极(8)的阳极(7),阳极(7)经绝缘子(9)与检测器(10)、升压电源(11)的正极相接,壳体(5)与升压电源(11)的负极相接。它可随时对灭弧室的真空度进行在线监测,不用拆下真空灭弧室。具有结构较简单,使用安全方便,实用效果好的特点,可应用于现有使用真空灭弧室的场合。
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公开(公告)号:CN2829057Y
公开(公告)日:2006-10-18
申请号:CN200520006367.0
申请日:2005-10-21
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
Inventor: 康一
IPC: H01H33/662
Abstract: 本实用新型公开了一种真空灭弧室用的瓷壳。构造包括瓷壳(1),特点是,瓷壳(1)的中封端设有内台阶孔(2)。本实用新型在瓷壳的中封端扩大了瓷壳的内部空间。既保证了中封支撑的可靠性,又有效地缩小了瓷壳的外形尺寸,并使真空灭弧室中的电场得到了改善,提高了真空灭弧室的耐压性能。达到了使真空灭弧室小型化的目的。
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公开(公告)号:CN201084637Y
公开(公告)日:2008-07-09
申请号:CN200720200836.1
申请日:2007-08-16
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
IPC: H01H33/664
Abstract: 本实用新型公开了一种玻璃真空灭弧室用的屏蔽筒,其特征在于:屏蔽筒(1)用电磁纯铁材料制成,屏蔽筒(1)的表面敷设有光亮保护层(2)。本实用新型可减少外磁场的影响,使电弧不会偏烧,提高了玻璃真空灭弧室的可靠性和稳定性。其开断能力提高了20%左右。由于在纯铁屏蔽筒表面敷设了一个光亮保护层;既提高了屏蔽筒内外表面的光洁度,确保纯铁屏蔽筒在生产过程中不氧化,又能更好地改善真空灭弧室内部电压的均匀分布,冷却和凝结电弧生成物能力更强,同时也避免了纯铁屏蔽筒内的尖端放电。本实用新型还可缩小屏蔽筒的直径尺寸,有利于实现玻璃真空灭弧室的小形化。摘要重新整理一下。与新的权利要求书以及有益效果内容对应。
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公开(公告)号:CN2829059Y
公开(公告)日:2006-10-18
申请号:CN200520006379.3
申请日:2005-10-25
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
Inventor: 王德志
IPC: H01H33/664
Abstract: 本实用新型公开了一种真空灭弧室中屏蔽筒与瓷壳的新型连接构造。它包括屏蔽筒(1)和瓷壳(2);特点是:瓷壳(2)的内侧设有环型凸台(3),在屏蔽筒(1)的外侧对应于环型凸台(3)上、下方位置分别设有金属环(5)和金属环(4),或仅在屏蔽筒(1)的外侧对应于环型凸台(3)下方位置设有金属环(4)。本实用新型解决了高膨胀系数的金属屏蔽筒与瓷壳的钎焊固定问题。防止了因屏蔽筒的膨胀造成瓷壳的破裂,以及使屏蔽筒脱落或固定不牢靠产生故障。提高了产品的可靠性,拓宽了屏蔽筒使用材料的选择,更有利于真空灭弧室朝着小型化的方向发展。
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公开(公告)号:CN2829058Y
公开(公告)日:2006-10-18
申请号:CN200520006366.6
申请日:2005-10-21
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
Inventor: 顾斌
IPC: H01H33/664 , H01H9/30
Abstract: 本实用新型公开了一种真空灭弧室用的一体化屏蔽筒。屏蔽筒(1)由一块材料压制成形,屏蔽筒(1)中部的外圆面压制有环形凸台(2)。本实用新型改变了传统真空灭弧室中屏蔽筒由上、下两节屏蔽筒焊接而成的结构,设计新颖,制作工艺简单,降低了生产成本,一次通过率高,提高了屏蔽筒内表面的光洁度,使屏蔽筒中的电场分布均匀,避免了屏蔽筒内的尖端放电,提高了屏蔽筒的耐压,提高了产品质量。
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公开(公告)号:CN201066650Y
公开(公告)日:2008-05-28
申请号:CN200620200931.7
申请日:2006-11-16
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
Inventor: 何跃
IPC: H01H33/664 , H01H9/30
Abstract: 本实用新型公开了一种新型结构的真空灭弧室,它包括绝缘外壳(1),绝缘外壳(1)内设有动组件(2),动组件(2)一端设有动触头(3),动组件(1)中部依次套有波纹管屏蔽罩(4)、波纹管(5)和导向套(6),导向套(6)与动端封接环(7)连接,动端封接环(7)的另一端与绝缘外壳(1)的一端焊接在一起;绝缘外壳(1)的另一端经端罩(8)与静端封接环(9)焊接在一起,静端封接环(9)中设有静组件(10),静组件(10)的一端设有静触头(11),静组件(10)的另一端从静端封接环(9)穿出,静组件(10)的中部与静端封接环(9)连接。本实用新型在保证真空灭弧室性能不变的前提下,可以简化结构,减小体积,降低成本。从而达到真空灭弧室小型化和节约成本的目的。
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公开(公告)号:CN2736910Y
公开(公告)日:2005-10-26
申请号:CN200420061578.X
申请日:2004-09-30
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
Inventor: 陈志会
IPC: H01H33/664
Abstract: 本实用新型公开了一种真空灭弧室中触头支撑装置用的加强筋。其构造包括加强筋(1),特点是在加强筋(1)上部开设有一个或一个以上的凹槽(2)。这种结构既保证了足够的支撑强度,又保证有一定的缓冲吸收触头合闸时间的动能,减小了真空灭弧室合闸时触头产生的弹跳,有效提高了产品的可靠性。
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公开(公告)号:CN2619352Y
公开(公告)日:2004-06-02
申请号:CN03234523.2
申请日:2003-05-20
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
Inventor: 王德志
IPC: H01H33/664 , H01H9/44
Abstract: 本实用新型公开了一种真空灭弧室用的触头座线圈,它的构成包括导电圆环1,圆环1上开有二个或二个以上的凹槽3,在凹槽3下开有沿圆环1圆周旋转的斜槽2;特点是:沿圆环1圆周旋转的斜槽2是沿圆环1圆周旋转180°的斜槽2。本实用新型通过增加电流路径,从而增强开断时触头间的磁场,起到了提高真空灭弧室灭弧能力的作用。在实现相同的开断能力下,利用本实用新型,可以较大幅度地减小触头座体积和触头表面积。本实用新型结构简单,实用效果好,可减小触头座体积和触头表面积以及真空灭弧室的体积,对真空灭弧室的小型化有积极作用。可用于真空灭弧室的生产中。
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公开(公告)号:CN2548250Y
公开(公告)日:2003-04-30
申请号:CN02223104.8
申请日:2002-06-25
Applicant: 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司
Inventor: 彭琦柯
IPC: H01H33/664
Abstract: 一种真空灭弧室用的铁芯,它的构成包括一个用铁磁性物质制作的圆环1,圆环1开有断槽2;特点是,在圆环1开有若干对上下交错开设的凹槽3。它既可以使真空灭弧室在开断时的聚集磁场分布好;又可使开断后剩余磁场迅速衰减,提高介质恢复强度。使得真空灭弧室的开断能力加强。具有易于制作和安装,成本较低,使用效果好的特点。可应用于真空灭弧室上。
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