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公开(公告)号:CN101307460A
公开(公告)日:2008-11-19
申请号:CN200810009754.8
申请日:2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社 , 株式会社东芝
IPC: C25B1/30 , C25B1/22 , B08B3/08 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法,其包括:通过电解硫酸制备氧化溶液,并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法,其包括:制备工件;通过电解硫酸制备氧化溶液,并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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公开(公告)号:CN102157370A
公开(公告)日:2011-08-17
申请号:CN201110066173.X
申请日:2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社 , 株式会社东芝
IPC: H01L21/306 , C25B1/30 , C25B1/22
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法,其包括:通过电解硫酸制备氧化溶液,并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法,其包括:制备工件;通过电解硫酸制备氧化溶液,并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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公开(公告)号:CN101307460B
公开(公告)日:2011-05-18
申请号:CN200810009754.8
申请日:2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社 , 株式会社东芝
IPC: C25B1/30 , C25B1/22 , B08B3/08 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法,其包括:通过电解硫酸制备氧化溶液,并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法,其包括:制备工件;通过电解硫酸制备氧化溶液,并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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公开(公告)号:CN102030306A
公开(公告)日:2011-04-27
申请号:CN201010287644.5
申请日:2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 氯工程株式会社 , 芝浦机械电子株式会社
IPC: B81C1/00
Abstract: 根据一个实施方案,公开了一种清洗方法。该方法通过电解稀硫酸溶液可以制备包括氧化物质的氧化溶液。另外,该方法可以向待清洗物体表面单独地、按顺序地或基本上同时地供给高浓缩无机酸溶液和氧化溶液。
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公开(公告)号:CN102102211B
公开(公告)日:2013-01-23
申请号:CN201010591444.9
申请日:2010-12-16
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: C25B1/22 , C25B9/08 , G03F1/80 , G03F7/423 , H01L21/02057 , H01L21/31133 , H01L21/6708
Abstract: 在一个实施方案中,公开了一种蚀刻方法。该方法可以包括通过电解硫酸溶液产生氧化性物质、和通过控制氧化性物质的生成量来产生具有规定的氧化剂浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所生产的蚀刻溶液供应到工件表面。
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公开(公告)号:CN102031203B
公开(公告)日:2012-10-17
申请号:CN201010287629.0
申请日:2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: H01L21/31133 , G03F7/423 , H01L21/67051
Abstract: 根据实施方案,一种清洗液包括氧化物质和氢氟酸,并且显示出酸性。公开了一种清洗方法。该方法包括制备一种包括氧化物质的氧化溶液,通过选自电解硫酸溶液、电解加入硫酸溶液中的氢氟酸以及混合硫酸溶液和过氧化氢水溶液中的一种来制备。该方法包括向待清洗物体的表面提供氧化溶液和氢氟酸。
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公开(公告)号:CN102449231A
公开(公告)日:2012-05-09
申请号:CN201080023036.1
申请日:2010-05-18
Abstract: 本发明提供一种木化纤维素材料的蒸煮法,其提高相同卡伯值下的纸浆收率,且削减相同卡伯值下的有效碱添加比例。其为使用下述蒸煮釜的连续蒸煮法,所述蒸煮釜的内部从顶部向底部具备塔顶区、上部蒸煮区、下部蒸煮区、蒸煮洗涤区,而且在各区底部设有过滤器,且将由各过滤器中的至少一个过滤器提取的蒸煮黑液排出至蒸煮体系之外,其中,将由特定组成的碱性蒸煮液所构成的第1蒸煮液供给至所述蒸煮釜的顶部之前,将由以氢氧化钠为主成分的碱性蒸煮液所构成的第2蒸煮液供给至上部蒸煮区,将由与第2蒸煮液相同的碱性蒸煮液所构成的第3蒸煮液供给至蒸煮洗涤区。
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公开(公告)号:CN102031203A
公开(公告)日:2011-04-27
申请号:CN201010287629.0
申请日:2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: H01L21/31133 , G03F7/423 , H01L21/67051
Abstract: 根据实施方案,一种清洗液包括氧化物质和氢氟酸,并且显示出酸性。公开了一种清洗方法。该方法包括制备一种包括氧化物质的氧化溶液,通过选自电解硫酸溶液、电解加入硫酸溶液中的氢氟酸以及混合硫酸溶液和过氧化氢水溶液中的一种来制备。该方法包括向待清洗物体的表面提供氧化溶液和氢氟酸。
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公开(公告)号:CN102449231B
公开(公告)日:2014-05-14
申请号:CN201080023036.1
申请日:2010-05-18
Abstract: 本发明提供一种木化纤维素材料的蒸煮法,其提高相同卡伯值下的纸浆收率,且削减相同卡伯值下的有效碱添加比例。其为使用下述蒸煮釜的连续蒸煮法,所述蒸煮釜的内部从顶部向底部具备塔顶区、上部蒸煮区、下部蒸煮区、蒸煮洗涤区,而且在各区底部设有过滤器,且将由各过滤器中的至少一个过滤器提取的蒸煮黑液排出至蒸煮体系之外,其中,将由特定组成的碱性蒸煮液所构成的第1蒸煮液供给至所述蒸煮釜的顶部之前,将由以氢氧化钠为主成分的碱性蒸煮液所构成的第2蒸煮液供给至上部蒸煮区,将由与第2蒸煮液相同的碱性蒸煮液所构成的第3蒸煮液供给至蒸煮洗涤区。
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公开(公告)号:CN102102211A
公开(公告)日:2011-06-22
申请号:CN201010591444.9
申请日:2010-12-16
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: C25B1/22 , C25B9/08 , G03F1/80 , G03F7/423 , H01L21/02057 , H01L21/31133 , H01L21/6708
Abstract: 在一个实施方案中,公开了一种蚀刻方法。该方法可以包括通过电解硫酸溶液产生氧化性物质、和通过控制氧化性物质的生成量来产生具有规定的氧化剂浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所生产的蚀刻溶液供应到工件表面。
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