公开(公告)号：CN119731366A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202380060506.9

申请日：2023-06-21

Applicant: AGC株式会社 ,  翼真空理研株式会社

Inventor： 小川修平 ,  小川朝敬 ,  石川道夫 ,  谷村径夫 ,  冈田英一

IPC: C23C14/08 ,  C01F17/218 ,  C23C14/22 ,  C23C14/48 ,  C25D11/18 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31

Abstract: 本发明提供一种耐等离子体性和外观优异的钇质保护膜。本发明提供一种钇质保护膜，含有氧化钇，气孔率小于0.5体积％，维氏硬度为800HV以上。该钇质保护膜优选厚度为0.3μm以上，微晶尺寸为40nm以下，Y2O3的(222)晶面的取向度为50％以上，氢原子数为5.0×1021个/cm3以下，压缩应力为100～1700MPa。

公开(公告)号：CN118696147A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202380022035.2

申请日：2023-02-14

Applicant: AGC株式会社 ,  翼真空理研株式会社

Inventor： 石川道夫 ,  谷村径夫 ,  小川修平 ,  小川朝敬

IPC: C23C14/06 ,  C23C16/44 ,  H01L21/316

Abstract: 本发明涉及一种钇质保护膜，其X射线衍射图谱中的Y5O4F7的峰强度比为60％以上，气孔率小于1.5体积％，维氏硬度为500MPa以上。