公开(公告)号：CN1247526C

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN02819214.1

申请日：2002-12-12

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 三田成良 ,  千田光昭 ,  矶川素朗 ,  加藤高藏 ,  永井直

IPC: C07C229/48 ,  C07C227/04 ,  C07C233/58

CPC classification number: C07C229/48 ,  C07C233/63

Abstract: 本发明涉及通式(1)表示的新的二氨基二羧酸及其合成中间体氨基甲酰基化合物；以及二氨基二羧酸的制备方法。该二氨基二羧酸可以通过氨基甲酰基化合物的霍夫曼重排反应制备，是用作树脂原料或树脂添加剂的有用的化合物。(式中，A是脂肪族基；R1和R2的任何之一表示羧基，另一表示氨基或氨基甲酰基，R3和R4的任何之一表示羧基，另一表示氨基或氨基甲酰基)。

公开(公告)号：CN1426400A

公开(公告)日：2003-06-25

申请号：CN01808788.4

申请日：2001-12-27

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 松叶胜彦 ,  加藤高藏 ,  猪木哲 ,  渡部恭吉 ,  大川尚 ,  山崎正人 ,  岩间道夫

IPC: C07D233/34

CPC classification number: C07D233/34 ,  C07D233/32 ,  Y02P20/582

Abstract: 一种制备1，3－二烷基－2－咪唑啉酮化合物的方法，所述方法包括在50℃或更高温度下将作为第一组分的烯化氧与第二组分一起加热以使它们发生反应，所述第二组分选自：(A)二氧化碳和单烷基胺；(B)单烷基胺与二氧化碳形成的化合物；(C)1，3－二烷基脲，其中组分(A)中所含的单烷基胺的摩尔进料量、作为组分(B)的单烷基胺/二氧化碳化合物中单烷基胺部分的摩尔进料量、作为组分(C)的所述1，3－二烷基脲的摩尔进料量的两倍的总和为所述烯化氧的摩尔进料量的至少3倍。由于使用工业上易于获得的烯化氧作为原料，所述方法适用于工业生产。它可以得到高收率。

公开(公告)号：CN101309760B

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：CN200680042823.4

申请日：2006-11-27

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 冈崎光树 ,  关亮一 ,  加藤高藏 ,  高木正利

IPC: B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B32B27/30 ,  C08F20/26 ,  C08F20/38 ,  C08F30/02 ,  C09D133/04 ,  C09D143/02 ,  C09K3/00 ,  C09K3/16 ,  C09K3/18

CPC classification number: G02B1/18 ,  B05D5/00 ,  C03C17/30 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/00 ,  C08J2443/02 ,  C09D5/1668 ,  C09D133/14 ,  C09D143/02 ,  C09K3/16 ,  C09K3/18 ,  G02B1/16 ,  G02B27/0006 ,  Y10T428/14 ,  Y10T428/1476 ,  Y10T428/23 ,  Y10T428/263 ,  Y10T428/269 ,  Y10T428/28 ,  Y10T428/31 ,  Y10T428/31786 ,  Y10T428/31855

Abstract: 本发明涉及一种单层膜，所述单层膜具有选自磺酸基、羧基及磷酸基中的至少1种阴离子性亲水基团，该单层膜的表面中的阴离子浓度(Sa)和深部中的阴离子浓度(Da)的阴离子浓度比(Sa/Da)在1.1以上。此单层膜是聚合下述组合物得到的水接触角在30°以下的共聚物，所述组合物含有通式(1)表示的化合物(I)和1分子内具有2个以上(甲基)丙烯酰基的化合物(II)，其中，化合物(I)和化合物(II)换算成摩尔比在15∶1～1∶30的范围内。上述单层膜具有高亲水性和表面硬度，防雾性、防污性及防带电性优异，作为防雾材料、防污材料及防带电材料、层合体有用。[X]s[M1]l[M2]m (1)。

公开(公告)号：CN101309760A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200680042823.4

申请日：2006-11-27

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 冈崎光树 ,  关亮一 ,  加藤高藏 ,  高木正利

IPC: B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B32B27/30 ,  C08F20/26 ,  C08F20/38 ,  C08F30/02 ,  C09D133/04 ,  C09D143/02 ,  C09K3/00 ,  C09K3/16 ,  C09K3/18

CPC classification number: G02B1/18 ,  B05D5/00 ,  C03C17/30 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/00 ,  C08J2443/02 ,  C09D5/1668 ,  C09D133/14 ,  C09D143/02 ,  C09K3/16 ,  C09K3/18 ,  G02B1/16 ,  G02B27/0006 ,  Y10T428/14 ,  Y10T428/1476 ,  Y10T428/23 ,  Y10T428/263 ,  Y10T428/269 ,  Y10T428/28 ,  Y10T428/31 ,  Y10T428/31786 ,  Y10T428/31855

Abstract: 本发明涉及一种单层膜，所述单层膜具有选自磺酸基、羧基及磷酸基中的至少1种阴离子性亲水基团，该单层膜的表面中的阴离子浓度(Sa)和深部中的阴离子浓度(Da)的阴离子浓度比(Sa/Da)在1.1以上。此单层膜是聚合下述组合物得到的水接触角在30°以下的共聚物，所述组合物含有通式(1)表示的化合物(I)和1分子内具有2个以上(甲基)丙烯酰基的化合物(II)，其中，化合物(I)和化合物(II)换算成摩尔比在15∶1～1∶30的范围内。上述单层膜具有高亲水性和表面硬度，防雾性、防污性及防带电性优异，作为防雾材料、防污材料及防带电材料、层合体有用。[X]s[M1]l[M2]m (1)

公开(公告)号：CN1561328A

公开(公告)日：2005-01-05

申请号：CN02819214.1

申请日：2002-12-12

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 三田成良 ,  千田光昭 ,  矶川素朗 ,  加藤高藏 ,  永井直

IPC: C07C229/48 ,  C07C227/04 ,  C07C233/58

CPC classification number: C07C229/48 ,  C07C233/63

Abstract: 本发明涉及通式(1)表示的新的二氨基二羧酸及其合成中间体氨基甲酰基化合物；以及二氨基二羧酸的制备方法。该二氨基二羧酸可以通过氨基甲酰基化合物的霍夫曼重排反应制备，是用作树脂原料或树脂添加剂的有用的化合物(式中，A是脂肪族基；R1和R2的任何之一表示羧基，另一表示氨基或氨基甲酰基，R3和R4的任何之一表示羧基，另一表示氨基或氨基甲酰基)。

公开(公告)号：CN1179949C

公开(公告)日：2004-12-15

申请号：CN01808788.4

申请日：2001-12-27

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 松叶胜彦 ,  加藤高藏 ,  猪木哲 ,  渡部恭吉 ,  大川尚 ,  山崎正人 ,  岩间道夫

IPC: C07D233/34

CPC classification number: C07D233/34 ,  C07D233/32 ,  Y02P20/582

Abstract: 一种制备1，3-二烷基-2-咪唑啉酮化合物的方法，所述方法包括在50℃或更高温度下将作为第一组分的烯化氧与第二组分一起加热以使它们发生反应，所述第二组分选自：(A)二氧化碳和单烷基胺；(B)单烷基胺与二氧化碳形成的化合物；(C)1，3-二烷基脲，其中组分(A)中所含的单烷基胺的摩尔进料量、作为组分(B)的单烷基胺/二氧化碳化合物中单烷基胺部分的摩尔进料量、作为组分(C)的所述1，3-二烷基脲的摩尔进料量的两倍的总和为所述烯化氧的摩尔进料量的至少3倍。由于使用工业上易于获得的烯化氧作为原料，所述方法适用于工业生产。它可以得到高收率。