公开(公告)号：CN1263882A

公开(公告)日：2000-08-23

申请号：CN99120499.9

申请日：1999-12-22

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 后藤谦一 ,  福村考记 ,  园田宽 ,  成濑纯子 ,  林秀俊 ,  及川英明 ,  永田辉幸

IPC: C07C25/13 ,  C07C17/12

CPC classification number: C07C315/04 ,  C07B39/00 ,  C07C17/16 ,  C07C45/63 ,  C07C45/64 ,  C07C201/12 ,  C07C49/83 ,  C07C49/813 ,  C07C317/22 ,  C07C205/22 ,  C07C205/12

Abstract: 公开了一种制备氟取代的芳族化合物的方法,包括将有一个羟基的芳族化合物的碱金属或碱土金属盐与有机氟化剂反应。作为典型的氟化剂,例举了双－二烷基氨基二氟甲烷化合物,例如2,2’－二氟－1,3－二甲基咪唑啉。根据该方法,无需特殊设备,可容易地经济地制备工业上有用的氟取代的芳族化合物,例如氟苯、氟取代的二苯酮、氟取代的二芳基砜。

公开(公告)号：CN101253222A

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：CN200680031769.3

申请日：2006-10-12

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 富樫和彦 ,  成濑纯子 ,  三田成良

IPC: C08G73/02 ,  C09K11/06 ,  H01L51/50

CPC classification number: C08G73/0273 ,  C08G61/126 ,  C08G73/026 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1433 ,  C09K2211/1458 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/5048 ,  H01L51/5088 ,  H05B33/14 ,  Y10S428/917

Abstract: 本发明提供能适用于有机场致发光元件的高分子化合物、该化合物的制备方法、及使用了该化合物的有机场致发光元件。所述高分子化合物是含有磺酸基的高分子化合物，其特征在于，是向由通式(1)表示的重复单元组成的高分子化合物中导入磺酸基得到的结构。(式中，Ar1和Ar2表示一价芳香族基团，Y表示含有芳香族基团的二价基团，W表示碳原子数为4～30的二价芳香族基团)。

公开(公告)号：CN1336902A

公开(公告)日：2002-02-20

申请号：CN00802650.5

申请日：2000-09-12

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 福村考记 ,  岛冈隆 ,  及川英明 ,  园田宽 ,  后藤谦一 ,  成濑纯子 ,  林秀俊 ,  安武刚

IPC: C01B33/10 ,  C07F7/12

CPC classification number: C07F7/123 ,  C07F7/0876

Abstract: 这里公开的是一种方便有效地制备氟化硅化合物的方法,包括将具有至少一个选自与硅原子结合的羟基、烷氧基和芳氧基的基团的硅化合物与由式(1)代表的化合物反应从而氟化所述基团,式中R1、R2、R3和R4可相同或不同,并且各代表取代或未取代、饱和或不饱和的烷基,或取代或未取代的芳基;R1和R2或R3和R4可结合形成具有一个或多个氮原子或具有一个或多个氮原子和其它杂原子的环;或者R1和R3可结合形成具有两个或多个氮原子或具有两个或多个氮原子和其它杂原子的环。

公开(公告)号：CN1245796A

公开(公告)日：2000-03-01

申请号：CN99117955.2

申请日：1999-08-19

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 林秀俊 ,  园田宽 ,  后藤谦一 ,  福村考记 ,  成濑纯子 ,  永田辉幸

IPC: C07C257/10 ,  C07D233/02

CPC classification number: C07D233/28 ,  C07C67/08 ,  Y02P20/582 ,  C07C69/63

Abstract: 本发明公开了三氟乙酰氧基化试剂及其制备方法,所述试剂安全且使用方便,在工业中非常有用,该化合物由式(1)所表示,其中R1－R4是取代或未取代的、饱和或不饱和的烷基或取代或未取代的芳基并且可以相同或不同,R1和R2或R3和R4可以结合形成含氮原子或含有氮原子和其它杂原子的环,R1和R3可以结合形成含有氮原子或含有氮原子和其它杂原子的环。

公开(公告)号：CN1234380A

公开(公告)日：1999-11-10

申请号：CN99106006.7

申请日：1999-04-07

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 园田宽 ,  冈田一成 ,  后藤谦一 ,  福村考纪 ,  成濑纯子 ,  林秀俊 ,  永田辉幸 ,  高桥章

IPC: C07C11/22 ,  C07C15/50 ,  C07C15/54 ,  C07C39/18 ,  C07C205/06 ,  C07B35/00

CPC classification number: C07B35/06 ,  C07C1/24 ,  C07C37/002 ,  C07C201/12 ,  C07C15/54 ,  C07C15/48 ,  C07C11/22 ,  C07C39/18 ,  C07C205/06

Abstract: 公开了一种制备乙炔衍生物的方法,包括将分子式中具有式(1)所示骨架的化合物与式(2)所示化合物反应,或与式(3)表示的化合物反应:其中R1、R2、R3、R4和X1如说明书中所述。