防护膜框架以及包括该防护膜框架的防护膜组件

    公开(公告)号:CN102472960A

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN201080031601.9

    申请日:2010-07-06

    CPC classification number: G03F1/64 Y10T428/265 Y10T428/31511 Y10T428/31529

    Abstract: 本发明的目的在于提供硫酸根离子或脱气的产生少、并且具有适度的膜强度和高的耐药品性的防护膜组件。本发明为支持防护膜的外周的防护膜框架,在所述防护膜框架的表面形成有环氧系树脂的涂装膜,在所述环氧系树脂的涂装膜的红外吸收光谱中,在1450~1550cm-1的范围内存在的峰的吸光度相对于在1200~1275cm-1的范围内存在的峰的吸光度的比值为0.5~3,并且在1450~1550cm-1的范围内存在的峰的吸光度相对于在905~930cm-1的范围内存在的峰的吸光度的比值为1以上且小于7。

    防护膜框架以及包括该防护膜框架的防护膜组件

    公开(公告)号:CN102472960B

    公开(公告)日:2014-06-25

    申请号:CN201080031601.9

    申请日:2010-07-06

    CPC classification number: G03F1/64 Y10T428/265 Y10T428/31511 Y10T428/31529

    Abstract: 本发明的目的在于提供硫酸根离子或脱气的产生少、并且具有适度的膜强度和高的耐药品性的防护膜组件。本发明为支持防护膜的外周的防护膜框架,在所述防护膜框架的表面形成有环氧系树脂的涂装膜,在所述环氧系树脂的涂装膜的红外吸收光谱中,在1450~1550cm-1的范围内存在的峰的吸光度相对于在1200~1275cm-1的范围内存在的峰的吸光度的比值为0.5~3,并且在1450~1550cm-1的范围内存在的峰的吸光度相对于在905~930cm-1的范围内存在的峰的吸光度的比值为1以上且小于7。

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