公开(公告)号：CN1462286A

公开(公告)日：2003-12-17

申请号：CN02801424.3

申请日：2002-04-25

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 须永忠弘 ,  河野宽 ,  河村宪守 ,  落合贵志 ,  重松茂人 ,  中野隆志 ,  森田智行 ,  井尾博文 ,  山本喜博

IPC: C08G61/06

CPC classification number: C08G61/08

Abstract: 本发明旨为提供一种在不超过193nm的真空紫外区域具有优异的光透射性能的含氟聚合物，一种优选用于制备该含氟聚合物的单体，一种用于制备该含氟聚合物的方法以及该含氟聚合物的应用。含氟环烯聚合物具有至少一个由上列结构式(1)代表的重复单元结构，其对157nm的紫外光具有不大于3.0μm－1的吸收系数。其中，R1至R12各自为氟、具有1～20个碳原子的含氟烷基等；X1为－CRaRb－、－NRa－和－PRa－(Ra和Rb各自为氟、具有1～20个碳原子的含氟烷基，氢、－O－、－S－、具有1～20个碳原子的烷基等)；R1至R12中的至少一个以及X1为氟或含氟基团；n为0或1～3的整数。

公开(公告)号：CN1233685C

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN02801424.3

申请日：2002-04-25

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 须永忠弘 ,  河野宽 ,  河村宪守 ,  落合贵志 ,  重松茂人 ,  中野隆志 ,  森田智行 ,  井尾博文 ,  山本喜博

IPC: C08G61/06

CPC classification number: C08G61/08

Abstract: 本发明旨为提供一种在不超过193nm的真空紫外区域具有优异的光透射性能的含氟聚合物，一种优选用于制备该含氟聚合物的单体，一种用于制备该含氟聚合物的方法以及该含氟聚合物的应用。含氟环烯聚合物具有至少一个由下列结构式(1)代表的重复单元结构，其对157nm的紫外光具有不大于3.0μm-1的吸收系数。其中，R1至R12各自为氟、具有1～20个碳原子的含氟烷基等；X1为-CRaRb-、-NRa-和-PRa-(Ra和Rb各自为氟、具有1～20个碳原子的含氟烷基，氢、-O-、-S-、具有1～20个碳原子的烷基等)；R1至R12中的至少一个以及X1为氟或含氟基团；n为0或1～3的整数。