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公开(公告)号:CN105386088A
公开(公告)日:2016-03-09
申请号:CN201510671938.0
申请日:2011-07-01
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: C25D1/04 , C25D3/38 , C25D3/58 , H01M4/661 , H01M10/052 , H01M2004/027
Abstract: 本发明的目的在于,提供即使氯含有量发生变动也能表现出各种稳定的特性的电解铜箔。进而,为了实现该目的而采用一种电解铜箔,其是通过电解铜电解液而得到的电解铜箔,其特征在于,电解铜箔中的碘含有量为0.003质量%以上,该碘含有量进一步优选在0.003质量%~0.03质量%范围。进而,该电解铜箔的氯含有量优选在0.0018质量%以下的范围。
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公开(公告)号:CN101517131B
公开(公告)日:2011-02-16
申请号:CN200780035397.6
申请日:2007-10-02
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C25D3/38
CPC classification number: C25D3/38
Abstract: 本发明目的是提供一种硫酸酸性铜电解液,其中,相对于铜电解液使用单硫化物类药品作为添加剂,从而可在紧接着建浴之后稳定地获得平滑的光泽性优异的电析铜薄膜。为了达到该目的,在添加有已提出的用于形成具有光泽的电析铜薄膜的活性硫化合物磺酸盐的硫酸酸性铜电解液中,使用双(3-磺丙基)二硫化物作为添加剂。该双(3-磺丙基)二硫化物,是从3-巯基-1-丙磺酸的水溶液通过氧化反应将3-巯基-1-丙磺酸转化为双(3-磺丙基)二硫化物而得到。在该氧化反应中,为了防止3-巯基-1-丙磺酸的氧化分解优选采用空气鼓泡法。
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公开(公告)号:CN101395304B
公开(公告)日:2011-02-16
申请号:CN200780007910.0
申请日:2007-03-09
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: H05K3/384 , C25D1/04 , C25D3/38 , C25D5/16 , C25D5/18 , C25D5/48 , C25D7/06 , H05K2201/0355 , H05K2203/0307 , H05K2203/0723 , H05K2203/1476 , Y10T428/12438 , Y10T428/12451 , Y10T428/12472 , Y10T428/12882 , Y10T428/12903 , Y10T428/12993 , Y10T428/24355 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明的目的在于提供一种表面处理电解铜箔及其制造方法,该表面处理电解铜箔具有与以往供给市场的低轮廓表面处理电解铜箔同等水平以上的低轮廓,且对布线直线性有影响的波纹小。为了达到该目的,制造与绝缘层构成材料的粘接面的波纹的最大高低差(Wmax)为0.05μm~0.7μm、凹凸的最大高低差(PV)为0.05~1.5μm、表面粗糙度(Rzjis)为0.1μm~1.0μm的表面处理电解铜箔。用于该表面处理电解铜箔的制造中的电解铜箔,采用如下的电解条件加以制造:采用添加3—巯基—1—丙磺酸或双(3—磺丙基)二硫化物和具有环状结构的季铵盐聚合物以及氯而得到的硫酸类铜电解液,用表面粗糙度小的阴极,以不同的两个标准以上的电流密度来实施连续的第一步电解至第n步电解。
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公开(公告)号:CN101297067A
公开(公告)日:2008-10-29
申请号:CN200680039678.4
申请日:2006-10-31
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可有效形成比以往市场上供应的低轮廓电解铜箔的轮廓更低且机械强度优良的电解铜箔的制造方法。为了达成上述目的,采用了下述电解铜箔的制造方法等,其电解含有具有环状结构的季铵盐聚合物和氯的硫酸系铜电解液来得到电解铜箔,上述硫酸系铜电解液中含有的季铵盐聚合物使用二聚体以上的DDAC聚合物。另外,在该季铵盐聚合物中,优选使用数均分子量为300~10000的二烯丙基二甲基氯化铵。另外,上述硫酸系铜电解液优选含有双(3-磺丙基)二硫化物或者含有具有巯基的化合物3-巯基-1-丙磺酸。
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公开(公告)号:CN102959135A
公开(公告)日:2013-03-06
申请号:CN201180032383.5
申请日:2011-07-01
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: C25D1/04 , C25D3/38 , C25D3/58 , H01M4/661 , H01M10/052 , H01M2004/027
Abstract: 本发明的目的在于,提供即使氯含有量发生变动也能表现出各种稳定的特性的电解铜箔。进而,为了实现该目的而采用一种电解铜箔,其是通过电解铜电解液而得到的电解铜箔,其特征在于,电解铜箔中的碘含有量为0.003质量%以上,该碘含有量进一步优选在0.003质量%~0.03质量%范围。进而,该电解铜箔的氯含有量优选在0.0018质量%以下的范围。
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公开(公告)号:CN101517131A
公开(公告)日:2009-08-26
申请号:CN200780035397.6
申请日:2007-10-02
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C25D3/38
CPC classification number: C25D3/38
Abstract: 本发明目的是提供一种硫酸酸性铜电解液,其中,相对于铜电解液使用单硫化物类药品作为添加剂,从而可在紧接着建浴之后稳定地获得平滑的光泽性优异的电析铜薄膜。为了达到该目的,在添加有已提出的用于形成具有光泽的电析铜薄膜的活性硫化合物磺酸盐的硫酸酸性铜电解液中,使用双(3-磺丙基)二硫化物作为添加剂。该双(3-磺丙基)二硫化物,是从3-巯基-1-丙磺酸的水溶液通过氧化反应将3-巯基-1-丙磺酸转化为双(3-磺丙基)二硫化物而得到。在该氧化反应中,为了防止3-巯基-1-丙磺酸的氧化分解优选采用空气鼓泡法。
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公开(公告)号:CN101395304A
公开(公告)日:2009-03-25
申请号:CN200780007910.0
申请日:2007-03-09
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: H05K3/384 , C25D1/04 , C25D3/38 , C25D5/16 , C25D5/18 , C25D5/48 , C25D7/06 , H05K2201/0355 , H05K2203/0307 , H05K2203/0723 , H05K2203/1476 , Y10T428/12438 , Y10T428/12451 , Y10T428/12472 , Y10T428/12882 , Y10T428/12903 , Y10T428/12993 , Y10T428/24355 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明的目的在于提供一种表面处理电解铜箔及其制造方法,该表面处理电解铜箔具有与以往供给市场的低轮廓表面处理电解铜箔同等水平以上的低轮廓,且对布线直线性有影响的波纹小。为了达到该目的,制造与绝缘层构成材料的粘接面的波纹的最大高低差(Wmax)为0.05μm~0.7μm、凹凸的最大高低差(PV)为0.05~1.5μm、表面粗糙度(Rzjis)为0.1μm~1.0μm的表面处理电解铜箔。用于该表面处理电解铜箔的制造中的电解铜箔,采用如下的电解条件加以制造:采用添加3-巯基-1-丙磺酸或双(3-磺丙基)二硫化物和具有环状结构的季铵盐聚合物以及氯而得到的硫酸类铜电解液,用表面粗糙度小的阴极,以不同的两个标准以上的电流密度来实施连续的第一步电解至第n步电解。
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公开(公告)号:CN105386088B
公开(公告)日:2018-06-29
申请号:CN201510671938.0
申请日:2011-07-01
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: C25D1/04 , C25D3/38 , C25D3/58 , H01M4/661 , H01M10/052 , H01M2004/027
Abstract: 本发明的目的在于,提供即使氯含有量发生变动也能表现出各种稳定的特性的电解铜箔。进而,为了实现该目的而采用一种电解铜箔,其是通过电解铜电解液而得到的电解铜箔,其特征在于,电解铜箔中的碘含有量为0.003质量%以上,该碘含有量进一步优选在0.003质量%~0.03质量%范围。进而,该电解铜箔的氯含有量优选在0.0018质量%以下的范围。
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公开(公告)号:CN102959135B
公开(公告)日:2016-03-09
申请号:CN201180032383.5
申请日:2011-07-01
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: C25D1/04 , C25D3/38 , C25D3/58 , H01M4/661 , H01M10/052 , H01M2004/027
Abstract: 本发明的目的在于,提供即使氯含有量发生变动也能表现出各种稳定的特性的电解铜箔。进而,为了实现该目的而采用一种电解铜箔,其是通过电解铜电解液而得到的电解铜箔,其特征在于,电解铜箔中的碘含有量为0.003质量%以上,该碘含有量进一步优选在0.003质量%~0.03质量%范围。进而,该电解铜箔的氯含有量优选在0.0018质量%以下的范围。
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