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公开(公告)号:CN102270570B
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201110156773.5
申请日:2011-06-03
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/314 , H01L21/336
CPC classification number: H01L21/02672 , H01L21/02532 , H01L27/1277
Abstract: 本发明公开了一种使硅层结晶的方法及一种使用该方法制造薄膜晶体管的方法,使硅层结晶的方法包括:在基底上形成非晶硅层;对非晶硅层的表面执行疏水性处理,以在非晶硅层上获得疏水性表面;在经历过疏水性处理的非晶硅层上形成金属催化剂;以及热处理其上包括金属催化剂的非晶硅层,以使非晶硅层结晶成多晶硅层。
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公开(公告)号:CN102386070B
公开(公告)日:2016-02-17
申请号:CN201110259627.5
申请日:2011-08-31
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/66757 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02532 , H01L21/02672 , H01L27/1218 , H01L27/1277 , H01L27/3262 , H01L29/78603
Abstract: 本发明公开了一种形成多晶硅层的方法、一种形成薄膜晶体管的方法、一种薄膜晶体管和一种有机发光显示装置。形成多晶硅层的方法包括:在基底上形成缓冲层;利用氢等离子体处理所述缓冲层;在所述缓冲层上形成非晶硅层;在所述非晶硅层上形成用于使所述非晶硅层晶化的金属催化剂层;以及对所述非晶硅层热处理以形成多晶硅层。
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公开(公告)号:CN102214556B
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201110041351.3
申请日:2011-02-14
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L29/08 , H01L29/10
CPC classification number: H01L21/02532 , H01L21/02488 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L29/66757 , H01L29/66765
Abstract: 本发明公开了一种使非晶硅层结晶的方法、利用该方法来制造薄膜晶体管的方法以及利用该制造方法制造的薄膜晶体管,所述结晶方法包括以下步骤:形成非晶硅层;在非晶硅层上彼此分开地设置结晶催化剂颗粒;从非晶硅层的一部分选择性地去除结晶催化剂颗粒;通过热处理使非晶硅层结晶。
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公开(公告)号:CN102386069B
公开(公告)日:2016-08-03
申请号:CN201110241085.9
申请日:2011-08-22
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L27/32
CPC classification number: H01L27/3244 , H01L21/0245 , H01L21/02532 , H01L21/02667 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L27/3262 , H01L29/1033 , H01L29/66765 , H01L29/78609 , H01L29/78675 , H01L29/78678
Abstract: 一种形成多晶硅层的方法,包括形成第一非晶硅层和形成第二非晶硅层,使得所述第一非晶硅层和所述第二非晶硅层具有彼此不同的膜性质;和用金属催化剂使所述第一非晶硅层和所述第二非晶硅层结晶,以形成第一多晶硅层和第二多晶硅层。一种薄膜晶体管包括由所述方法形成的多晶硅层,和一种有机发光装置包括所述薄膜晶体管。
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公开(公告)号:CN102386090B
公开(公告)日:2016-05-11
申请号:CN201110235311.2
申请日:2011-08-16
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L21/324 , H01L29/786 , H01L51/50
CPC classification number: H01L29/78675 , H01L21/3226 , H01L27/1277 , H01L27/3262 , H01L29/66757
Abstract: 一种形成多晶硅层的方法,包括:在基板上形成非晶硅层;在所述非晶硅层上形成金属催化剂;在形成所述金属催化剂的所述非晶硅层的整个表面上形成吸杂金属层;以及执行热处理。一种薄膜晶体管包括所述多晶硅层,并且一种有机发光器件包括所述薄膜晶体管。
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公开(公告)号:CN102201443B
公开(公告)日:2015-05-20
申请号:CN201110055020.5
申请日:2011-03-07
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L29/78 , H01L27/12 , H01L21/336 , H01L21/77 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/66742 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L27/3262 , H01L27/3274 , H01L29/66757 , H01L29/78618 , H01L51/0081
Abstract: 本发明公开了一种基底、制造该基底的方法及包括该基底的有机发光显示装置。该基底包括:有源层,设置在基底上,有源层包括沟道区及源区和漏区;栅电极,设置在有源层上,沟道区与栅电极对应;栅极绝缘层,设置在有源层和栅电极之间;层间绝缘层,设置为覆盖有源层和栅电极,层间绝缘层具有部分地暴露有源层的第一接触孔和第二接触孔;源电极和漏电极,设置在层间绝缘层上,源区和漏区与源电极和漏电极对应;欧姆接触层,欧姆接触层设置在层间绝缘层与源电极和漏电极之间,并通过第一接触孔和第二接触孔接触源区和漏区。
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公开(公告)号:CN102386235B
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201110259212.8
申请日:2011-09-02
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L29/786 , H01L21/336 , H01L27/32
Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管及其制造方法和利用该薄膜晶体管的显示设备。该薄膜晶体管包括:基板、提供在所述基板上并且通过利用金属催化剂被结晶化的半导体层、与所述半导体层绝缘并且被设置在所述半导体层上的栅电极、以及设置在所述半导体层与所述栅电极之间的吸气层,所述吸气层利用具有比所述半导体层中的金属催化剂的扩散系数小的扩散系数的金属氧化物形成。
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公开(公告)号:CN102064197B
公开(公告)日:2015-12-16
申请号:CN201010287308.0
申请日:2010-09-16
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L29/786 , H01L29/10 , H01L21/336 , H01L27/32
CPC classification number: H01L29/66757 , H01L27/1277 , H01L27/3262
Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管、其制造方法和具有该薄膜晶体管的有机发光二极管显示器装置。所述薄膜晶体管包括:基板;缓冲层,位于所述基板上;半导体层,包括在所述缓冲层上的源/漏区和沟道区;栅绝缘层,对应于所述沟道区;栅极,对应于所述沟道区;和源/漏极,与所述半导体层电连接。所述沟道区的多晶硅层可仅包括小角度晶界,且大角度晶界可布置在所述半导体层的除所述沟道区外的区域中。
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公开(公告)号:CN102290335B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201110167103.3
申请日:2011-06-16
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L21/20 , H01L21/02 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/66757 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02491 , H01L21/02502 , H01L21/02532 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L29/78609 , H01L29/78675
Abstract: 一种使硅层结晶的方法和制造薄膜晶体管的方法,该使硅层结晶的方法包括:在基板上形成催化剂金属层;在所述催化剂金属层上形成催化剂金属压盖图案;在所述催化剂金属压盖图案上形成第二非晶硅层;以及对所述第二非晶硅层进行热处理以形成多晶硅层。
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公开(公告)号:CN104218059A
公开(公告)日:2014-12-17
申请号:CN201410171780.6
申请日:2014-04-25
Applicant: 三星显示有限公司
Inventor: 朴承圭
CPC classification number: H01L51/5221 , H01L27/3246 , H01L51/5231 , H01L2251/5392
Abstract: 本发明提供一种显示装置和制造显示装置的方法。该显示装置包括第一基底、阳极电极、像素限定层、有机发光层、多层复合体、钝化绝缘层和第二基底。阳极电极被设置在第一基底上。像素限定层被设置在第一基底上,并限定其上的显示区域和外围区域。有机发光层被设置在阳极电极和像素限定层上并覆盖阳极电极和像素限定层,并被配置为产生光。多层复合体被设置在有机发光层上并覆盖有机发光层,并被配置为施加电流到有机发光层。多层复合体包括被彼此层叠的多个导电层。钝化绝缘层被设置在多层复合体上并覆盖多层复合体。第二基底被设置在钝化绝缘层上,并对应于第一基底。
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