公开(公告)号：CN109917621A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201811375176.X

申请日：2018-11-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李炫浩 ,  朴钟文 ,  安秉燮 ,  崔振 ,  玉虫秀一

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开涉及一种孔径光阑系统、电子束曝光装置以及电子束曝光装置系统。一种电子束装置的孔径光阑系统，包括：多个孔径光阑板，所述多个孔径光阑板中的每个孔径光阑板包括第一区域和第二区域，所述第一区域包括至少一个允许电子束穿过的通孔，所述第二区域设置在所述第一区域的外部并包括第一对准键和第二对准键，其中所述多个孔径光阑板中的两个光阑板包括布置在相互交叠的位置并且尺寸相同的所述第一对准键，所述多个孔径光阑板中的除所述两个孔径光阑板之外的孔径光阑板包括布置为与所述第一对准键交叠并且面积大于所述第一对准键的面积的所述第二对准键。

公开(公告)号：CN109917621B

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN201811375176.X

申请日：2018-11-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李炫浩 ,  朴钟文 ,  安秉燮 ,  崔振 ,  玉虫秀一

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开涉及一种孔径光阑系统、电子束曝光装置以及电子束曝光装置系统。一种电子束装置的孔径光阑系统，包括：多个孔径光阑板，所述多个孔径光阑板中的每个孔径光阑板包括第一区域和第二区域，所述第一区域包括至少一个允许电子束穿过的通孔，所述第二区域设置在所述第一区域的外部并包括第一对准键和第二对准键，其中所述多个孔径光阑板中的两个光阑板包括布置在相互交叠的位置并且尺寸相同的所述第一对准键，所述多个孔径光阑板中的除所述两个孔径光阑板之外的孔径光阑板包括布置为与所述第一对准键交叠并且面积大于所述第一对准键的面积的所述第二对准键。

公开(公告)号：CN112305855A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN202010586599.7

申请日：2020-06-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李炳勋 ,  郑镛席 ,  方珠美 ,  安秉燮

IPC: G03F1/56 ,  G03F1/76 ,  H01L21/027

Abstract: 公开了形成图案的方法和制造半导体器件的方法。一种制造半导体器件的方法可以包括：提供衬底，衬底在其上包括抗蚀剂层；以及在抗蚀剂层上涂覆化合物以形成电荷消散层。电荷消散层可以包括导电聚合物和金属络合物。

公开(公告)号：CN107065440B

公开(公告)日：2020-08-18

申请号：CN201610991851.6

申请日：2016-11-10

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李受营 ,  玉虫秀一 ,  金炳局 ,  安秉燮

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种系统包括孔洞阵列，包括：多个活动孔洞，所述活动孔洞中的各个孔洞被配置为选择性偏转穿过其的光束。所述系统还包括限制孔洞，被配置为使没有被活动孔洞偏转的光束通过至目标对象。所述系统还包括控制电路，被配置为控制活动孔洞以提供第一和第二不同的暴露持续时间分辨率。

公开(公告)号：CN107065440A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201610991851.6

申请日：2016-11-10

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李受营 ,  玉虫秀一 ,  金炳局 ,  安秉燮

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种系统包括孔洞阵列，包括：多个活动孔洞，所述活动孔洞中的各个孔洞被配置为选择性偏转穿过其的光束。所述系统还包括限制孔洞，被配置为使没有被活动孔洞偏转的光束通过至目标对象。所述系统还包括控制电路，被配置为控制活动孔洞以提供第一和第二不同的暴露持续时间分辨率。