具有探针阵列的电阻式存储装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN1770456A

    公开(公告)日:2006-05-10

    申请号:CN200510092119.7

    申请日:2005-08-19

    CPC classification number: H01L27/101 B82Y10/00 G11B9/02 G11C11/22

    Abstract: 提供了一种具有探针阵列的电阻式存储装置及其制造方法。所述电阻式存储装置包括:存储部分,其具有依次形成在第一衬底上的底电极和铁电层;探针部分,其具有设置在第二衬底上的电阻式探针的阵列,所述电阻式探针的尖端面对所述铁电层使得所述电阻式探针能够在所述铁电层上写和读数据;以及粘合层,其将所述电阻式探针抓住并固定在所述铁电层上或所述铁电层上方。该电阻式存储装置的制造方法包括:在第一衬底上依次形成底电极和铁电层;在第二衬底上形成用于写和读数据的电阻式探针的阵列;以及使用粘合层将所述第一衬底晶片级结合到所述第二衬底上使得所述电阻式探针的尖端面对所述铁电层的表面。

    具有电阻尖端的半导体探针及其制造方法

    公开(公告)号:CN1747071A

    公开(公告)日:2006-03-15

    申请号:CN200510092417.6

    申请日:2005-08-18

    Abstract: 提供了一种具有电阻尖端的半导体探针以及该半导体探针的制造方法。所述方法包括:在掺杂了第一杂质的衬底上形成条形的掩模层,并通过用第二杂质重掺杂没有被该掩模层覆盖的衬底部分而形成第一和第二电极区;退火所述衬底从而减小第一和第二半导体电极区之间的间隙,并且在与半导体电极区邻接的部分形成轻掺杂了第二杂质的电阻区;形成与掩模层正交的条形的第一光致抗蚀剂,并且蚀刻掩模层使得掩模层具有正方形形状;在衬底上形成第二光致抗蚀剂从而覆盖第一光致抗蚀剂的一部分并限定悬臂区域;通过蚀刻而形成悬臂区域;以及去除光致抗蚀剂,并且通过蚀刻而形成具有半四棱锥形状的电阻尖端。

    具有电阻尖端的半导体探针的制造方法

    公开(公告)号:CN1747071B

    公开(公告)日:2010-09-01

    申请号:CN200510092417.6

    申请日:2005-08-18

    Abstract: 本发明提供了一种具有电阻尖端的半导体探针的制造方法。所述方法包括:在掺杂了第一杂质的衬底上形成条形的掩模层,并通过用第二杂质重掺杂没有被该掩模层覆盖的衬底部分而形成第一和第二电极区;退火所述衬底从而减小第一和第二半导体电极区之间的间隙,并且在与半导体电极区邻接的部分形成轻掺杂了第二杂质的电阻区;形成与掩模层正交的条形的第一光致抗蚀剂,并且蚀刻掩模层使得掩模层具有正方形形状;在衬底上形成第二光致抗蚀剂从而覆盖第一光致抗蚀剂的一部分并限定悬臂区域;通过蚀刻而形成悬臂区域;以及去除光致抗蚀剂,并且通过蚀刻而形成具有半四棱锥形状的电阻尖端。

Patent Agency Ranking