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公开(公告)号：CN1800973A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200510048843.X
申请日：2005-12-31
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 李泰雨 , 约翰·A·罗杰斯 , 茱利亚·W·苏
IPC: G03F1/14 , G03F7/20 , H05B33/00
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50
Abstract: 本发明提供了一种用于光刻的柔性光掩模及其制造方法，以及利用该柔性光掩模的构图方法。该柔性光掩模由透光弹性体制成并具有图案化表面。
