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公开(公告)号：CN113728252B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202080030487.1
申请日：2020-04-22
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 公开一种聚硅氧系粘着保护膜及包括其的光学元件。所述聚硅氧系粘着保护膜由包含含烯基的有机聚硅氧烷、有机聚硅氧烷树脂、硅氧烷系离子化合物、交联剂及氢化硅烷化触媒的组成物形成，其中所述有机聚硅氧烷树脂包括包含R1R2R3SiO1/2单元(R1、R2及R3各自独立地为C1至C6烷基)及SiO4/2单元的有机聚硅氧烷树脂。
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公开(公告)号：CN109564795B
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201680087951.4
申请日：2016-12-14
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种透明导体和包括该透明导体的显示装置，该透明导体包括：基材层；以及透明导电图案层，形成于所述基材层上，所述透明导电图案层包括多个导电区域和非导电区域，所述非导电区域形成于相邻所述导电区域之间，透明导电图案层中，式1的非导电区域的偏差为大于约1且约1.25以下，并且所述非导电区域的最小线宽为约40μm以下。
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公开(公告)号：CN115717051B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202211474218.1
申请日：2020-04-22
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09J183/07 , C09J183/04 , C09J11/06 , G02B1/04 , G02B1/14 , G02B1/16
Abstract: 公开一种聚硅氧系粘着保护膜及包括其的光学元件。所述聚硅氧系粘着保护膜由包含含烯基的有机聚硅氧烷、有机聚硅氧烷树脂、硅氧烷系离子化合物、交联剂及氢化硅烷化触媒的组成物形成，其中所述有机聚硅氧烷树脂包括包含R1R2R3SiO1/2单元(R1、R2及R3各自独立地为C1至C6烷基)及SiO4/2单元的有机聚硅氧烷树脂。
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公开(公告)号：CN115109536A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210290613.8
申请日：2022-03-23
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本申请提供了粘合膜、包含其的光学构件和包含其的光学显示设备。所述粘合膜由粘合组合物形成，所述粘合组合物包括(甲基)丙烯酸类共聚物、固化剂、含芳香族基团的单官能或多官能单体和引发剂，并且所述粘合膜具有按照等式1计算的5.0或更高的剥离强度升高率。
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公开(公告)号：CN115109527A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210289636.7
申请日：2022-03-23
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供了一种粘合膜、包含其的光学构件及包含其的光学显示设备。粘合膜由粘合组合物形成，所述粘合组合物包括(甲基)丙烯酸类共聚物、固化剂、单官能单体或更高官能单体、光热转换材料、以及引发剂，并且所述粘合膜具有5.0或更大的剥离强度增加率，如根据等式1所计算的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115109527B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202210289636.7
申请日：2022-03-23
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供了一种粘合膜、包含其的光学构件及包含其的光学显示设备。粘合膜由粘合组合物形成，所述粘合组合物包括(甲基)丙烯酸类共聚物、固化剂、单官能单体或更高官能单体、光热转换材料、以及引发剂，并且所述粘合膜具有5.0或更大的剥离强度增加率，如根据等式1所计算的。
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公开(公告)号：CN115403799A
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202211163612.3
申请日：2019-12-27
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本公开提供一种硅酮系粘合性保护膜及包括所述硅酮系粘合性保护膜的光学构件。硅酮系粘合性保护膜由用于硅酮系粘合性保护膜的组合物形成，所述用于硅酮系粘合性保护膜的组合物包括硅酮树脂、交联剂及固化催化剂。硅酮系粘合性保护膜在25℃下相对于玻璃板具有3克力/英寸或小于3克力/英寸的剥离强度，且在25℃下具有0.5兆帕到7兆帕的模量。本公开的硅酮系粘合性保护膜具有低剥离强度、低剥离强度变化速率及良好润湿性质的。
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公开(公告)号：CN113728068A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202080030673.5
申请日：2020-04-24
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09J183/04 , C09J7/30 , C09J7/10 , G02B1/14
Abstract: 一种聚硅氧系黏着保护膜及一种包括其的光学元件。聚硅氧系黏着保护膜由包含含烯基的有机聚硅氧烷混合物、有机聚硅氧烷树脂、交联剂及氢化硅烷化触媒的组成物形成，其中有机聚硅氧烷树脂包括包含RaRbRcSiO1/2单元及SiO4/2单元的有机聚硅氧烷树脂中的至少一者，且其中Ra、Rb及Rc各自独立地为C1至C6烷基或C2至C10烯基。
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公开(公告)号：CN111094483A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880055979.9
申请日：2018-08-30
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种接着膜及一种包括其的光学构件，所述接着膜包括至少二种(甲基)丙烯酸预聚物的(甲基)丙烯酸单体以及含硅的(甲基)丙烯酸酯，其中所述接着膜相对于聚酰亚胺膜的剥离强度为约0.5克力/英寸至约5克力/英寸。
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公开(公告)号：CN115403799B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202211163612.3
申请日：2019-12-27
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本公开提供一种硅酮系粘合性保护膜及包括所述硅酮系粘合性保护膜的光学构件。硅酮系粘合性保护膜由用于硅酮系粘合性保护膜的组合物形成，所述用于硅酮系粘合性保护膜的组合物包括硅酮树脂、交联剂及固化催化剂。硅酮系粘合性保护膜在25℃下相对于玻璃板具有3克力/英寸或小于3克力/英寸的剥离强度，且在25℃下具有0.5兆帕到7兆帕的模量。本公开的硅酮系粘合性保护膜具有低剥离强度、低剥离强度变化速率及良好润湿性质的。
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