公开(公告)号：CN1940123A

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：CN200610141826.5

申请日：2006-09-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李政烈 ,  崔镕中 ,  马成乐 ,  闵卿旭

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/243 ,  Y10T117/1068

Abstract: 本发明提供了一种蒸发源部件和一种使用该部件的真空沉积装置，该真空沉积装置包括真空室、坩锅、加热器和位于坩锅内部的多层内板，其中，多层内板中的各层具有至少一个孔，从而蒸发材料可从坩锅底部穿过多层内板排到真空室中。

公开(公告)号：CN1769514A

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：CN200510117357.9

申请日：2005-11-03

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 柳承润 ,  柳景泰 ,  马成乐

IPC: C23C14/26 ,  C23C14/12

CPC classification number: C23C14/12 ,  C23C14/243

Abstract: 本发明提供了一种加热熔罐和一种沉积装置，加热熔罐具有均匀的沉积速率和优良的可重复性。该沉积装置的加热熔罐包括：钛主体，具有内腔和开口，内腔用于容纳要被沉积的材料，开口用于喷射要被沉积的材料；导线，用于加热主体；绝缘体，用于使主体与导线绝缘。