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公开(公告)号：CN103917274B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201280054629.3
申请日：2012-09-21
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/048 , H05H2277/11
Abstract: 本发明的粒子射线治疗系统包括对带电粒子射束进行加速的加速器系统、以及将从该加速器射出的高能量射束输送到照射位置的射束输送系统，所述射束输送系统中具备至少一个转向电磁铁和与该转向电磁铁相对应的至少一个射束位置监视器，所述射束位置监视器向所述转向电磁铁提供对周期性变动的射束位置进行校正的励磁电流。
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公开(公告)号：CN103200993B
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201180053865.9
申请日：2011-03-10
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明的目的在于得到一种能抑制泄漏剂量的影响的粒子射线治疗装置。包括：照射头(21)，该照射头(21)使从加速器(1)射出的粒子射线(B)向规定方向照射；照射控制部(42)，该照射控制部(42)对照射头(21)的动作进行控制，以分别对设定在照射对象(TC)内的平面方向(ASS)内的多个束点(SP)依次照射规定剂量的粒子射线(B)；以及控制部(4)，该控制部(4)对来自加速器(1)的粒子射线(B)的射出进行开启/关闭控制；在从将射出从开启切换为关闭的时刻(TF)起的规定期间(PW)内，或者在粒子射线(B)被遮断之前的期间内，照射控制部(42)利用照射头(21)来使粒子射线(B)向照射对象(TC)内的规定范围(AP)内进行稀释扫描。
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公开(公告)号：CN103339529B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201280002289.X
申请日：2012-01-20
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1071 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , G01T1/29 , G21K5/00 , G21K5/02
Abstract: 本发明的粒子束位置监视装置的目的在于即使是在受到伴随带电粒子束的照射而产生的放射线的影响的情况下，也能缩短带电粒子束的照射位置的取得间隔。粒子束位置监视装置(30)具备：多个位置监视器(4)；以及粒子束数据处理装置(11)，该粒子束数据处理装置(11)基于从多个位置监视器(4)输出的多个信号对带电粒子束(1)的状态进行运算处理，粒子束数据处理装置(11)具有：多个信道数据转换部(21)，该多个信道数据转换部(21)对于从位置监视器(4)输出的多个信号执行AD转换处理；对应于每个位置监视器(4)的位置尺寸处理部(23)，该位置尺寸处理部(23)基于进行了AD转换处理后的电压信息对粒子束(1)的粒子束位置进行计算；以及综合控制部(40)，该综合控制部(40)在粒子束(1)对照射对象(15)进行照射的期间对多个信道数据转换部(21)进行控制，使得对与多个信号对应的每个位置监视器(4)在错开的定时执行AD转换处理。
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公开(公告)号：CN103917274A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201280054629.3
申请日：2012-09-21
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/048 , H05H2277/11
Abstract: 本发明的粒子射线治疗系统包括对带电粒子射束进行加速的加速器系统、以及将从该加速器射出的高能量射束输送到照射位置的射束输送系统，所述射束输送系统中具备至少一个转向电磁铁和与该转向电磁铁相对应的至少一个射束位置监视器，所述射束位置监视器向所述转向电磁铁提供对周期性变动的射束位置进行校正的励磁电流。
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公开(公告)号：CN105263577B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201380077190.0
申请日：2013-06-06
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1067 , A61N5/1071 , A61N5/1075 , A61N2005/1076 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明包括：按每一层对粒子射线进行成形并进行照射的照射装置(10)；实时测量剂量的剂量监视器(12)；基于剂量监视器(12)测量到的测量值(Ci)和按每一层进行设定的剂量校正系数来对每一层的照射剂量进行评价的剂量评价部(70)；基于剂量评价部(70)的评价结果来控制每一层的照射的照射控制部(60)；以及使用通过对设置有校正剂量计(82)的模拟体模(81)照射粒子射线而获得的实际测量剂量校正系数(αi)、来生成剂量校正系数的插补值或推测值(βi)的插补值生成部(74)，插补值生成部(74)对于成为插补值或推测值(βi)的对象的每一层，基于该层的照射条件，进行每一个实际测量剂量校正系数(αi)的加权。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105263577A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201380077190.0
申请日：2013-06-06
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1067 , A61N5/1071 , A61N5/1075 , A61N2005/1076 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明包括：按每一层对粒子射线进行成形并进行照射的照射装置(10)；实时测量剂量的剂量监视器(12)；基于剂量监视器(12)测量到的测量值(Ci)和按每一层进行设定的剂量校正系数来对每一层的照射剂量进行评价的剂量评价部(70)；基于剂量评价部(70)的评价结果来控制每一层的照射的照射控制部(60)；以及使用通过对设置有校正剂量计(82)的模拟体模(81)照射粒子射线而获得的实际测量剂量校正系数(αi)、来生成剂量校正系数的插补值或推测值(βi)的插补值生成部(74)，插补值生成部(74)对于成为插补值或推测值(βi)的对象的每一层，基于该层的照射条件，进行每一个实际测量剂量校正系数(αi)的加权。
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公开(公告)号：CN102762023B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201210023337.5
申请日：2012-01-16
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H05H13/04
Abstract: 本发明提供能稳定进行控制、调整简单、调整时间较短的圆形加速器。包括：目标电流值存储器，该目标电流值存储器存储从射出装置射出的带电粒子的粒子束电流的目标电流值；以及频率决定部，该频率决定部基于粒子束电流检测器的检测信号与存储于目标电流值存储器的目标电流值之间的误差信号来进行反馈控制，从而求出频率变化率，并根据该求出的频率变化率和当前的频率，来决定下一个频率，将该频率决定部所决定的下一个频率存储于频率存储器，并使高频产生装置产生所决定的下一个频率的高频。
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公开(公告)号：CN104023791A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201180074600.7
申请日：2011-11-03
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1081 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 本发明的目的在于，即使带电粒子束为低能量，也以较小的射束尺寸对照射对象进行照射。本发明的粒子射线照射装置(58)的特征在于，包括：形成供带电粒子束(1)通过的真空区域的真空管道(6、7)；从真空区域释放带电粒子束(1)的真空窗8；在与射束轴垂直的方向上扫描带电粒子束(1)的扫描电磁铁(2、3)；具有对带电粒子束(1)的通过位置以及射束尺寸进行检测的位置监视器(5)的监视器装置(67)；覆盖真空窗(8)、并在下游侧配置有监视器装置(67)的低散射气体填充室(39)；以及对带电粒子束(1)的照射进行控制的照射管理装置(20)，低散射气体填充室(39)配置成使得监视器装置(67)与真空窗(8)在射束轴向上的相对位置能变更为规定位置，在照射带电粒子束(1)时，填充有散射比空气小的低散射气体。
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公开(公告)号：CN103917273A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201180074570.X
申请日：2011-11-02
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1077 , A61N5/1049 , A61N5/1069 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明的粒子射线治疗装置包括：控制治疗台(30)的位置的治疗台控制部(61)；以及输出用于对该治疗台控制部、加速器(1)、扫描电磁铁(7)进行控制的指令的照射控制部(60)，治疗台控制部控制治疗台，以使得作为患者的患部基准位置的患者等中心移动到照射等中心(IC2)的位置为止，该照射等中心(IC2)的位置设置在比作为照射嘴(4)与治疗台之间的位置关系的基准的设备等中心(IC1)更靠近照射嘴的位置，之后，照射控制部输出用于对患者照射粒子射线的指令。
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公开(公告)号：CN103402581A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201180068576.6
申请日：2011-03-02
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N5/1068 , A61N2005/1059 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能更高速地对照射目标提供更高精度的剂量分布的粒子射线照射系统。本发明的粒子射线照射系统包括：扫描用偏转电磁铁，该扫描用偏转电磁铁使粒子射线发生偏转并对其进行扫描；以及能量宽度扩大设备，该能量宽度扩大设备用于扩大粒子射线的能量宽度，从而在照射目标的深度方向，即粒子射线的照射方向上形成SOBP，能量宽度扩大设备构成为对照射目标的深度方向上的整个照射区域形成深度方向上的SOBP，并对扫描用偏转电磁铁进行控制，以使得粒子射线在照射目标上形成的照射点在上述照射目标的上述横向上的整个照射区域呈阶梯状移动。
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