半导体工业清洗剂及其应用

    公开(公告)号:CN103881837A

    公开(公告)日:2014-06-25

    申请号:CN201210556512.7

    申请日:2012-12-19

    Abstract: 本发明公开了一种半导体工业清洗剂及其应用,其特征在于,由如下重量百分比的组分组成:酸剂0.5%~9.5%、表面活性剂5%~35%、抗静电剂0.1%~2.0%、增溶剂1%~6%,缓蚀剂1%~4%,杀菌剂0.1%~2.0%,去离子水余量。本发明是一种用于多晶硅片水基清洗剂,为无色透明或半透明液体;本发明具有极高的表面活性特性使其具有极低的表面张力,其独特的网状化学结构使其具有高挂线性和高悬浮性,能够有效抵御微生物的侵袭,保证在使用过程中不腐败变质,不发臭,还可以为用户节约成本,减少废液的排放,有利于环境保护,自然界的生物降解性好,可长期滞留在水和土壤中。

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