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公开(公告)号：CN115445448B
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202211190325.1
申请日：2022-09-28
Applicant: 东北电力大学
Abstract: 一种基于MOFs的锂离子印迹PVDF膜的制备方法，它涉及一种锂离子印迹膜的制备方法。本发明的目的是要解决现有离子印迹分子不能同时具有高吸附容量和高选择性的问题。方法：一、制备NH2‑UIO‑66锆基有机金属框架；二、制备MOFs‑LiⅡPs印迹聚合物；三、制备SP‑PDA@PVDF膜；四、引入SiO2纳米中间层；五、制备MOFs‑LiⅡPs@PVDF膜。本发明制备的基于MOFs的锂离子印迹PVDF膜对MOFs离子印迹聚合物的负载率提高了11.6％，相应的导致吸附量显著提高；SiO2改性提高了膜的比表面积和抗污染性能，使得吸附平衡时间更短，抗污染性能提高，连续洗脱10次后其性能仅下降了5.6％。
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公开(公告)号：CN113351180B
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202110639912.3
申请日：2021-06-08
Applicant: 东北电力大学
IPC: B01J20/26 , B01J20/28 , B01J20/30 , B01D67/00 , B01D69/12 , B01D69/02 , B01D15/08 , B01D61/00 , C02F1/28 , C02F1/44 , C22B3/24 , C22B26/12
Abstract: 一种温度响应型仿生锂离子印迹复合膜的制备方法及应用，它涉及一种锂离子印迹复合膜的制备方法及应用。本发明的目的是要解决现有仿生锂离子印迹复合膜的制备及应用过程中，酸性解吸试剂对吸附位点造成不可逆的破坏以及产生大量洗脱废水的问题。方法：一、制备PDA@PVDF膜；二、制备PDA@PVDF‑RAFT膜；三、制备PDA@PVDF‑RAFT‑PDEA膜；四、制备Li‑TSIIM。一种温度响应型仿生锂离子印迹复合膜用于吸附Li+。本发明所制备的温度响应型仿生锂离子印迹复合膜对锂离子具有较好的选择性吸附能力，同时具有再生性强、化学稳定性良好的特点。本发明可获得一种温度响应型仿生锂离子印迹复合膜。
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公开(公告)号：CN113171689B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202110468671.0
申请日：2021-04-27
Applicant: 东北电力大学
Abstract: 一种纳米颗粒与膜表面微观结构构建相结合的膜制备方法，它涉及一种表面微观结构膜的制备方法。本发明的目的是要解决现有膜蒸馏技术中的疏水性差、疏油性差、耐久度不足导致的膜污染问题。膜制备方法：一、制备PVDF基膜铸膜液；二、制备表面具有规律圆柱体凹陷阵列的膜蒸馏用膜；三、负载二氧化硅纳米粒子；四、降低表面能，形成一种纳米颗粒与膜表面微观结构构建相结合的膜。本发明制备的一种纳米颗粒与膜表面微观结构构建相结合的膜与水和二碘甲烷的静态接触角最大值分别为170°与157°，达到超双疏水平，具有优异的抗污染性能。本发明可提供一种纳米颗粒与膜表面微观结构相结合的膜制备方法。
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公开(公告)号：CN113509913A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110433243.4
申请日：2021-04-21
Applicant: 东北电力大学
Abstract: 一种具有磁性高吸附量高选择性的锂离子印迹纳米复合膜的制备方法及应用，它涉及一种锂离子印迹纳米复合膜的制备方法及应用。本发明的目的是要解决离子印迹膜回收锂离子过程中吸附量低和吸附平衡时间长的问题。方法：一、制备PDA@PVDF膜；二、制备MH‑Fe3O4@SiO2纳米颗粒；三、制备MH‑Fe3O4@SiO2@PDA@PVDF膜；四、制备2‑(烯丙氧基)甲基‑12‑冠‑4；五、制备锂离子印迹纳米复合膜。一种具有磁性高吸附量高选择性的锂离子印迹纳米复合膜用于吸附锂离子。本发明可获得一种具有磁性高吸附量高选择性的锂离子印迹纳米复合膜。
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公开(公告)号：CN114984926B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202210508305.8
申请日：2022-05-11
Applicant: 东北电力大学
Abstract: 一种高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物的制备方法，它涉及一种锂离子印迹聚合物的制备方法。本发明的目的是要解决现有回收锂的方法成本高且步骤繁杂和现有磁性离子印迹聚合物制备方法负责和容易团聚，导致对锂吸附容量降低的问题。方法：一、制备Fe3O4/RGO；二、制备Fe3O4@SiO2@IIP/RGO，即为高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物。本发明制得的高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物相较于目前的锂离子印迹材料有明显的抗团聚特性，饱和吸附容量显著提升。本发明制得的高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物对锂离子的吸附率可达99.9％。本发明可获得一种高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114984926A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202210508305.8
申请日：2022-05-11
Applicant: 东北电力大学
Abstract: 一种高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物的制备方法，它涉及一种锂离子印迹聚合物的制备方法。本发明的目的是要解决现有回收锂的方法成本高且步骤繁杂和现有磁性离子印迹聚合物制备方法负责和容易团聚，导致对锂吸附容量降低的问题。方法：一、制备Fe3O4/RGO；二、制备Fe3O4@SiO2@IIP/RGO，即为高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物。本发明制得的高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物相较于目前的锂离子印迹材料有明显的抗团聚特性，饱和吸附容量显著提升。本发明制得的高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物对锂离子的吸附率可达99.9％。本发明可获得一种高抗团聚RGO基磁性锂离子印迹聚合物。
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公开(公告)号：CN113509913B
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202110433243.4
申请日：2021-04-21
Applicant: 东北电力大学
Abstract: 一种具有磁性高吸附量高选择性的锂离子印迹纳米复合膜的制备方法及应用，它涉及一种锂离子印迹纳米复合膜的制备方法及应用。本发明的目的是要解决离子印迹膜回收锂离子过程中吸附量低和吸附平衡时间长的问题。方法：一、制备PDA@PVDF膜；二、制备MH‑Fe3O4@SiO2纳米颗粒；三、制备MH‑Fe3O4@SiO2@PDA@PVDF膜；四、制备2‑(烯丙氧基)甲基‑12‑冠‑4；五、制备锂离子印迹纳米复合膜。一种具有磁性高吸附量高选择性的锂离子印迹纳米复合膜用于吸附锂离子。本发明可获得一种具有磁性高吸附量高选择性的锂离子印迹纳米复合膜。
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公开(公告)号：CN113171689A
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202110468671.0
申请日：2021-04-27
Applicant: 东北电力大学
Abstract: 一种纳米颗粒与膜表面微观结构构建相结合的膜制备方法，它涉及一种表面微观结构膜的制备方法。本发明的目的是要解决现有膜蒸馏技术中的疏水性差、疏油性差、耐久度不足导致的膜污染问题。膜制备方法：一、制备PVDF基膜铸膜液；二、制备表面具有规律圆柱体凹陷阵列的膜蒸馏用膜；三、负载二氧化硅纳米粒子；四、降低表面能，形成一种纳米颗粒与膜表面微观结构构建相结合的膜。本发明制备的一种纳米颗粒与膜表面微观结构构建相结合的膜与水和二碘甲烷的静态接触角最大值分别为170°与157°，达到超双疏水平，具有优异的抗污染性能。本发明可提供一种纳米颗粒与膜表面微观结构相结合的膜制备方法。
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公开(公告)号：CN115445448A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202211190325.1
申请日：2022-09-28
Applicant: 东北电力大学
Abstract: 一种基于MOFs的锂离子印迹PVDF膜的制备方法，它涉及一种锂离子印迹膜的制备方法。本发明的目的是要解决现有离子印迹分子不能同时具有高吸附容量和高选择性的问题。方法：一、制备NH2‑UIO‑66锆基有机金属框架；二、制备MOFs‑LiⅡPs印迹聚合物；三、制备SP‑PDA@PVDF膜；四、引入SiO2纳米中间层；五、制备MOFs‑LiⅡPs@PVDF膜。本发明制备的基于MOFs的锂离子印迹PVDF膜对MOFs离子印迹聚合物的负载率提高了11.6％，相应的导致吸附量显著提高；SiO2改性提高了膜的比表面积和抗污染性能，使得吸附平衡时间更短，抗污染性能提高，连续洗脱10次后其性能仅下降了5.6％。
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公开(公告)号：CN113351180A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110639912.3
申请日：2021-06-08
Applicant: 东北电力大学
IPC: B01J20/26 , B01J20/28 , B01J20/30 , B01D67/00 , B01D69/12 , B01D69/02 , B01D15/08 , B01D61/00 , C02F1/28 , C02F1/44 , C22B3/24 , C22B26/12
Abstract: 一种温度响应型仿生锂离子印迹复合膜的制备方法及应用，它涉及一种锂离子印迹复合膜的制备方法及应用。本发明的目的是要解决现有仿生锂离子印迹复合膜的制备及应用过程中，酸性解吸试剂对吸附位点造成不可逆的破坏以及产生大量洗脱废水的问题。方法：一、制备PDA@PVDF膜；二、制备PDA@PVDF‑RAFT膜；三、制备PDA@PVDF‑RAFT‑PDEA膜；四、制备Li‑TSIIM。一种温度响应型仿生锂离子印迹复合膜用于吸附Li+。本发明所制备的温度响应型仿生锂离子印迹复合膜对锂离子具有较好的选择性吸附能力，同时具有再生性强、化学稳定性良好的特点。本发明可获得一种温度响应型仿生锂离子印迹复合膜。
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