Patent search ap:("东南大学") AND inv:"姜宇隆" Page 1

1.

发明公开
一种表面修复与强化用高熵合金的激光熔覆方法无效

公开(公告)号：CN114481121A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202210036457.2

申请日：2022-01-13

Applicant: 东南大学

Inventor： 田无边 , 杨勇 , 姜宇隆

IPC: C23C24/10 , B24B19/00 , C22C30/00 , C22F1/02

Abstract: 本发明公开了一种表面修复与强化用高熵合金的激光熔覆方法，包括如下步骤：(1)对待修复的零件表面预处理，利用激光熔覆法在零件表面形成高熵合金熔覆层；(2)对零件表面熔覆层进行磨削加工，达到零件预期尺寸；(3)对磨削加工后的熔覆层进行热处理以形成析出强化相，得到硬度提高的高熵合金熔覆层。本发明通过整合激光熔覆修复、表面精加工和后续热处理，在涂层硬度较低时进行加工，然后通过热处理大幅度提升涂层硬度，制备除了高硬度、高耐磨的表面涂层；对于实现高性能装备再制造具有重要意义。

Patent Agency Ranking