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公开(公告)号：CN102648269B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201080040535.1
申请日：2010-11-15
Applicant: 东友精细化工有限公司
IPC: H01L21/304 , C09K13/04
CPC classification number: C23F1/38
Abstract: 本发明公开了一种用于单层钼膜的蚀刻剂组合物，基于所述组合物的总重，包括：5～25wt％的过氧化氢(H2O2)；0.5～3wt％的环胺化合物；0.5～5wt％的添加剂，所述添加剂包括选自由柠檬酸二氢钠、柠檬酸氢二钠、磷酸氢二钠、柠檬酸三钠，和醋酸盐组成的组中的至少一种；和余量水。
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