公开(公告)号：CN110559811B

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN201910292458.1

申请日：2019-04-12

Applicant: 东芝生活电器株式会社

Inventor： 富田笃志 ,  品川英司 ,  小林大谨 ,  中野太阳

IPC: B01D53/22 ,  B01D71/76 ,  F25D17/04

Abstract: 本发明提供气体分离能力优异的富氧膜及其制造方法。富氧膜(62)具有气体分离层(101)和支撑气体分离层(101)的多孔质基材层(102)，气体分离层(101)的表面粗糙度为5nm～1μm。

公开(公告)号：CN110559811A

公开(公告)日：2019-12-13

申请号：CN201910292458.1

申请日：2019-04-12

Applicant: 东芝生活电器株式会社

Inventor： 富田笃志 ,  品川英司 ,  小林大谨 ,  中野太阳

IPC: B01D53/22 ,  B01D71/76 ,  F25D17/04

Abstract: 本发明提供气体分离能力优异的富氧膜及其制造方法。富氧膜(62)具有气体分离层(101)和支撑气体分离层(101)的多孔质基材层(102)，气体分离层(101)的表面粗糙度为5nm～1μm。

公开(公告)号：CN110559810A

公开(公告)日：2019-12-13

申请号：CN201910292410.0

申请日：2019-04-12

Applicant: 东芝生活电器株式会社

Inventor： 富田笃志 ,  品川英司 ,  小林大谨 ,  中野太阳

IPC: B01D53/22 ,  B01D71/70 ,  F25D23/12

Abstract: 本发明提供气体分离能力优异的富氧膜的制造方法和储藏库的制造方法，其在即使有机硅系组合物的浓度低的情况下，也不会使中间层的表面劣化，能够将有机硅系组合物均匀地进行涂布。至少具有气体分离层(101)、多孔质基材层(102)和位于气体分离层(101)与多孔质基材层(102)之间的中间层(103)的富氧膜(62)的制造方法具有：将具有硅氧烷键的化合物用溶剂进行稀释来制备有机硅系组合物的工序；使上述有机硅系组合物发生交联反应的工序；通过在多孔质基材层(102)上涂布中间层组合物而层叠中间层(103)的工序；和通过在中间层(103)上涂布交联反应后的上述有机硅系组合物而层叠气体分离层(101)的工序。

公开(公告)号：CN108571851A

公开(公告)日：2018-09-25

申请号：CN201810092871.9

申请日：2018-01-31

Applicant: 东芝生活电器株式会社

Inventor： 高桥由纪 ,  富田笃志

IPC: F25D11/02 ,  F25D23/12 ,  F25D29/00 ,  A23B7/01

Abstract: 一种冰箱，具备：储藏室，设置在冰箱主体内且具有蔬菜收容部；以及近红外线照射装置，对上述蔬菜收容部照射近红外线。