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发明公开
高碱、低铝、低硅溶液中铝和/或硅的深度去除工艺审中-实审

公开(公告)号：CN119258943A

公开(公告)日：2025-01-07

申请号：CN202411447075.4

申请日：2024-10-16

Applicant: 中南大学

Inventor： 彭志宏 , 毛琴 , 刘溢臻 , 申雷霆 , 王一霖 , 齐天贵 , 周秋生 , 刘桂华

IPC: B01J19/00

Abstract: 本发明属于溶液深度净化技术领域，公开了高碱、低铝、低硅溶液中铝、硅、铝和硅的深度去除工艺。将镁的化合物或钙的化合物或镁和钙的化合物与部分高碱、低铝、低硅溶液混合调浆，加热，反应，得到除铝或除硅或除硅铝添加剂；将除铝或除硅或除硅铝添加剂加入到高碱、低铝、低硅溶液中，加热，反应，即可深度去除碱液中的铝或硅或硅和铝。本发明的工艺适用范围广，铝或硅或硅和铝的脱除效果很好，且可实现碱液的循环利用。

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