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公开(公告)号：CN106749407B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201710010847.1
申请日：2017-01-06
Applicant: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
Inventor： 谢翔 , 何遥 , 黄曾 , 马宗平 , 陈琪萍 , 刘飞 , 张锐 , 牟婉君 , 李兴亮 , 魏洪源 , 蹇源 , 唐惠 , 周官宏 , 张佳强 , 王定林 , 党宇峰 , 王博
IPC: C07F9/6506 , C07C303/40 , C07C311/48 , C22B60/02 , C22B3/38
CPC classification number: Y02P10/234
Abstract: 本发明公开了一种氨基磷酸基功能化离子液体及其制备方法和用途，其特点是以咪唑作为离子液体的阳离子基体，在咪唑侧链上引入了氨基磷酸基，实现了氨基磷酸酯功能化离子液体的合成，该功能化离子液体中的磷酸基官能团通过氨基烷基链与咪唑阳离子链接，磷酸基和氨基对铀酰金属离子都有配位作用，从而解决了常规TBP‑功能化离子液体对铀酰萃取效率低的问题。本发明的化合物可作为一种高效的萃取剂用于铀酰金属离子的萃取、乏燃料后处理领域，其优点是萃取效率高，单次萃取铀酰萃取率高达99.88％。
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公开(公告)号：CN113174623B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202110458477.4
申请日：2021-04-27
Applicant: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
Abstract: 本发明公开了一种小型薄平板工件多区域电镀装置，该装置包含电机、阳极引出系统、电镀槽、电源及控制器，所述阳极引出系统的两侧分别与电镀槽、电机相连接，阳极引出系统、电镀槽通过引线分别连接至电源的正极、与电源的负极，所述电机与控制器相连接。该装置能够实现平面薄金属基底及超薄基底的区域电镀，通过采用带弹簧的底座，在电镀中保证基底受力均匀，压力可控，最后使得基底平整；采用四方的电镀槽设计，能有效防止圆形基底出现位移，电镀完成后能方便完成区域的转换；同时采用十字垫圈进行区域的划分和密封。本发明简化了平面基底分区电镀的操作程序，降低了手动掩蔽法的不平行现象。
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公开(公告)号：CN113186584B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202110457586.4
申请日：2021-04-27
Applicant: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
Abstract: 本发明公开了一种小管外壁电镀装置，该小管外壁电镀装置包括所述装置包括电镀槽座，双层玻璃镀槽，端盖，底座，阴极导出单元，阳极，镀件。本发明的小管外壁电镀装置能实现针对锕系核素的管状靶件外壁电镀操作，其拥有良好的电场分布，溶液量少，能对局部区域进行密封操作，能实现电镀过程中溶液控温，该装置操作便捷，适应手套箱操作要求。
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公开(公告)号：CN113174623A
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202110458477.4
申请日：2021-04-27
Applicant: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
Abstract: 本发明公开了一种小型薄平板工件多区域电镀装置，该装置包含电机、阳极引出系统、电镀槽、电源及控制器，所述阳极引出系统的两侧分别与电镀槽、电机相连接，阳极引出系统、电镀槽通过引线分别连接至电源的正极、与电源的负极，所述电机与控制器相连接。该装置能够实现平面薄金属基底及超薄基底的区域电镀，通过采用带弹簧的底座，在电镀中保证基底受力均匀，压力可控，最后使得基底平整；采用四方的电镀槽设计，能有效防止圆形基底出现位移，电镀完成后能方便完成区域的转换；同时采用十字垫圈进行区域的划分和密封。本发明简化了平面基底分区电镀的操作程序，降低了手动掩蔽法的不平行现象。
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公开(公告)号：CN106748995B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201611054057.5
申请日：2016-11-25
Applicant: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
Inventor： 谢翔 , 卓连刚 , 马宗平 , 黄曾 , 何遥 , 刘飞 , 张锐 , 陈琪萍 , 牟婉君 , 李兴亮 , 魏洪源 , 蹇源 , 张佳强 , 王定林 , 党宇峰 , 王博 , 刘超
IPC: C07D213/81 , A61K31/444 , A61P39/04
Abstract: 本发明公开了一种双3，2‑羟基吡啶酮类衍生物及其制备方法和用途，其特点是所述双3，2‑羟基吡啶酮类衍生物以氯丙酮、丁二酸酮钠盐衍生物和氨气在Lewis酸催化下发生迈克尔加成和酰胺化反应构建2，3‑羟基吡啶酮类片段，该片段经过苄基保护后通过强碱性条件下的皂化反应水解乙酯得到4位羧酸，然后使用赖氨酸与活化的3，2‑羟基吡啶酮类衍生物发生酰胺化反应得到苄基保护的目标产物前体，最后通过Pd/C在H2条件下脱除苄基得到目标双3，2‑羟基吡啶酮类衍生物。本发明的化合物的结构特点是，双羟基吡啶酮具有独特的齿状结构，赖氨酸基团的引入使得可与金属离子形成稳定的配合物，从而可作为一种潜在的促排剂应用于生物体内金属促排等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106748995A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611054057.5
申请日：2016-11-25
Applicant: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
Inventor： 谢翔 , 卓连刚 , 马宗平 , 黄曾 , 何遥 , 刘飞 , 张锐 , 陈琪萍 , 牟婉君 , 李兴亮 , 魏洪源 , 蹇源 , 张佳强 , 王定林 , 党宇峰 , 王博 , 刘超
IPC: C07D213/81 , A61K31/444 , A61P39/04
Abstract: 本发明公开了一种双3，2‑羟基吡啶酮类衍生物及其制备方法和用途，其特点是所述双3，2‑羟基吡啶酮类衍生物以氯丙酮、丁二酸酮钠盐衍生物和氨气在Lewis酸催化下发生迈克尔加成和酰胺化反应构建2，3‑羟基吡啶酮类片段，该片段经过苄基保护后通过强碱性条件下的皂化反应水解乙酯得到4位羧酸，然后使用赖氨酸与活化的3，2‑羟基吡啶酮类衍生物发生酰胺化反应得到苄基保护的目标产物前体，最后通过Pd/C在H2条件下脱除苄基得到目标双3，2‑羟基吡啶酮类衍生物。本发明的化合物的结构特点是，双羟基吡啶酮具有独特的齿状结构，赖氨酸基团的引入使得可与金属离子形成稳定的配合物，从而可作为一种潜在的促排剂应用于生物体内金属促排等领域。
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公开(公告)号：CN106588757A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201611054887.8
申请日：2016-11-25
Applicant: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
Inventor： 马宗平 , 谢翔 , 卓连刚 , 黄曾 , 何遥 , 刘飞 , 张锐 , 陈琪萍 , 牟婉君 , 李兴亮 , 魏洪源 , 蹇源 , 张佳强 , 王定林 , 党宇峰 , 王博 , 刘超
IPC: C07D213/69 , A61K31/444 , A61P39/04 , G21F9/00
Abstract: 本发明公开了一种羟基吡啶酮类贫铀促排剂及其制备方法和用途，其特征在于，以溴乙酸乙酯和2，3‑二羟基吡啶为原料进行溴取代反应得到羟基吡啶酮化合物；经过苄基保护羟基和皂化反应水解乙酯得到1位羧酸，使用硫酮活化羧基后，再使用赖氨酸与活化的3，2‑羟基吡啶酮类衍生物发生酰胺化反应得到苄基保护的目标产物前体，最后通过Pd/C在氢气条件下脱除苄基得到目标羟基吡啶酮类贫铀促排剂。本发明的化合物的结构特点是，双羟基吡啶酮具有独特的齿状结构，赖氨酸基团的引入使得可与金属离子形成稳定的配合物，从而可作为一种潜在的促排剂应用于生物体内贫铀促排等领域，其优点在于水溶性好、促排能力强、选择性高和毒性低。
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公开(公告)号：CN115607821A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202210361256.X
申请日：2022-04-07
Applicant: 珠海市人民医院 , 中山大学肿瘤防治中心(中山大学附属肿瘤医院、中山大学肿瘤研究所) , 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 , 何灏 , 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
IPC: A61M36/04
Abstract: 本发明提供了一种线状可塑变形放射装置，包括记忆合金管，以及内置于所述记忆合金管的银线，银线上镀有放射性核素。本发明线状可塑变形放射装置与腔道适形性良好，本发明克服目前颗粒状放射源与支架配合使用操作复杂、剂量分布不均等缺点。
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公开(公告)号：CN113186584A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110457586.4
申请日：2021-04-27
Applicant: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
Abstract: 本发明公开了一种小管外壁电镀装置，该小管外壁电镀装置包括所述装置包括电镀槽座，双层玻璃镀槽，端盖，底座，阴极导出单元，阳极，镀件。本发明的小管外壁电镀装置能实现针对锕系核素的管状靶件外壁电镀操作，其拥有良好的电场分布，溶液量少，能对局部区域进行密封操作，能实现电镀过程中溶液控温，该装置操作便捷，适应手套箱操作要求。
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公开(公告)号：CN113151881A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110458479.3
申请日：2021-04-27
Applicant: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
Abstract: 本发明公开了一种适用于小面积放射源制备的电镀装置，该装置包括盖子、槽体、垫圈及电镀槽底座；所述的槽体采用底部逐渐变窄的竖直式空腔结构，槽体包括上端圆柱腔及下端椎形腔，槽体固定在电镀槽底座上；所述电镀槽底座为“工”字形腔体结构，其上端与盖子连接，下端设有位于中央位置处的凹槽及沿凹槽周向均匀分布的多个导向槽；所述凹槽用于放置垫圈和作为阴极的金属底衬；所述盖子为中空结构。利用本发明的电镀装置，在实现小面积放射源电镀的同时，能在手套箱或工作箱内通过简单操作实现电镀槽体、电镀金属底衬居中，且能实现电镀后便捷地取出金属底衬，以及能便捷地开展极间距调节工艺实验。
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