公开(公告)号：CN118641553A

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN202410876109.5

申请日：2024-07-02

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 姚霖 ,  黄进 ,  刘太祥 ,  李昌朋 ,  杨科 ,  严鸿维 ,  黄林

IPC: G01N21/95

Abstract: 本发明公开了一种基于弱相干干涉光谱成像系统的光学元件缺陷检测方法，按照以下步骤进行：S1、使用弱相干干涉光谱成像装置采集光学元件的原始干涉光谱信号；S2、得到空间强度结构图像；S3、根据空间强度结构图像，得到强度结构投影图像；S4、得到缺陷纹理特征；S5、得到光谱曲线；S6、结合步骤S4中得到的缺陷纹理特征和步骤S5中得到的光谱曲线，对不同类型缺陷进行区分。采用本发明公开的基于弱相干干涉光谱成像系统的光学元件缺陷检测方法，突破了现有暗场和明场图像检测区分损伤坑缺陷的局限性，实现了光学元件缺陷分类，能够有效区分小尺度损伤坑及表面污染颗粒，从而实现高灵敏度检测，避免出现漏修复与错修复的问题。

公开(公告)号：CN119510361A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411673582.X

申请日：2024-11-21

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 严鸿维 ,  杨科 ,  李昌朋 ,  刘太祥 ,  黄林 ,  吕海兵 ,  黄进 ,  姚霖 ,  张卓 ,  钱宇杰 ,  易聪之

IPC: G01N21/59 ,  G01N21/84 ,  G01Q60/24 ,  G01B11/06 ,  B08B3/12 ,  B08B3/08 ,  B08B13/00

Abstract: 本申请公开了一种基于二氧化硅薄膜的兆声清洗效果评估方法，涉及兆声清洗效果评估领域，该方法包括：制备二氧化硅薄膜样品；将所述二氧化硅薄膜样品放置于兆声清洗槽中进行兆声清洗；获取二氧化硅薄膜样品清洗前后的表征数据；根据二氧化硅薄膜样品清洗前后的表征数据对兆声清洗效果进行评估。本申请能够低成本、快捷、精准的评估兆声清洗效果。

公开(公告)号：CN117571619A

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202311687068.7

申请日：2023-12-11

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 姚霖 ,  黄进 ,  刘太祥 ,  李昌朋 ,  杨科 ,  严鸿维 ,  黄林

IPC: G01N21/01 ,  G01N21/95

Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统及方法，其中光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统包括光学相干层析成像装置、激光泵浦装置和信号处理与控制模块。采用以上技术方案的一种光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统及方法，利用激光泵浦配合光学相干层析成像，实现了对光学元件表面热敏性缺陷的快速检测，具备快速、无损、微米级高分辨结构成像、纳米级高精度相位探测等优点，突破传统热敏性缺陷检测手段“检测精度与检测效率不可兼得”的技术瓶颈，同时能够采集光学元件的三维结构图像和相位信息，从而可以获取热敏性缺陷在光学元件中包括深度位置信息在内的精准三维位置信息。

公开(公告)号：CN119023701B

公开(公告)日：2025-01-24

申请号：CN202411497463.3

申请日：2024-10-25

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 黄进 ,  蒋晓东 ,  姚霖 ,  王海军 ,  刘太祥 ,  李昌朋 ,  顾菡

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/88 ,  G01N21/552 ,  G01N21/31

Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面吸收性缺陷的检测方法及检测系统，涉及光学元件检测领域，包括：S1、基于微区受抑全反射成像原理，采用EMCCD在受抑全反射条件下扫描标准玻片上的探针光倏逝波图像Ⅰ；S2、在探针光倏逝波图像Ⅰ采集之后或之前，扫描未泵浦条件下元件表面的探针光倏逝波图像Ⅱ；S3、基于设定坐标及路径，完成对待测光学元件全口径范围内的扫描；S4、将各探针光倏逝波图像Ⅰ、各探针光倏逝波图像Ⅱ分别进行拼接、对比，得到光学元件全口径范围内吸收性缺陷的相对光吸收强度。本发明提供一种光学元件表面吸收性缺陷的检测方法及检测系统，能在高效率的情况下，保证高灵敏度的检测效果。

公开(公告)号：CN119023701A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202411497463.3

申请日：2024-10-25

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 黄进 ,  蒋晓东 ,  姚霖 ,  王海军 ,  刘太祥 ,  李昌朋 ,  顾菡

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/88 ,  G01N21/552 ,  G01N21/31

Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面吸收性缺陷的检测方法及检测系统，涉及光学元件检测领域，包括：S1、基于微区受抑全反射成像原理，采用EMCCD在受抑全反射条件下扫描标准玻片上的探针光倏逝波图像Ⅰ；S2、在探针光倏逝波图像Ⅰ采集之后或之前，扫描未泵浦条件下元件表面的探针光倏逝波图像Ⅱ；S3、基于设定坐标及路径，完成对待测光学元件全口径范围内的扫描；S4、将各探针光倏逝波图像Ⅰ、各探针光倏逝波图像Ⅱ分别进行拼接、对比，得到光学元件全口径范围内吸收性缺陷的相对光吸收强度。本发明提供一种光学元件表面吸收性缺陷的检测方法及检测系统，能在高效率的情况下，保证高灵敏度的检测效果。

公开(公告)号：CN118307218A

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN202410429105.2

申请日：2024-04-10

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 黄林 ,  严鸿维 ,  牛龙飞 ,  刘太祥 ,  易聪之 ,  杨科 ,  李昌朋 ,  黄进 ,  姚霖 ,  张卓 ,  钱宇杰

IPC: C03C17/38 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11 ,  G02B1/14 ,  C09D1/00 ,  C03C3/085

Abstract: 本发明公开了一种可卷绕激光靶碎片屏蔽防护膜的制备方法，包括：对柔性玻璃基底进行清洗；使用碱催化二氧化硅溶胶，在清洗的柔性玻璃基底表面涂制内层膜；在内层膜表面制备非晶全氟聚合物，由此得到可卷绕激光靶碎片屏蔽防护膜。本发明制备的可卷绕激光靶碎片屏蔽防护膜应用于激光打靶中的靶丸碎片防护，本发明制备出的可卷绕激光靶碎片屏蔽防护膜既具备接近99％的三倍频峰值透过率，又具有很好的耐摩擦挤压性能，同时又能达到超过12J/cm2的激光损伤阈值，在保证光谱性能的同时，大幅提升了膜层的环境适应性。