-
公开(公告)号:CN116702301B
公开(公告)日:2023-10-10
申请号:CN202310974734.9
申请日:2023-08-04
Applicant: 中国电子工程设计院有限公司 , 世源科技工程有限公司
Abstract: 本发明公开了一种集成电路产线多级仿真布局的生成方法及装置,方法包括如下步骤:获取集成电路产线布局的需求设备,形成待布局设备清单;按照工艺区域、生产单元和设备的模块层级,对待布局设备清单中的待布局设备进行标签化处理,获得包含模块层级信息的集成电路产线布局数据清单;基于集成电路产线布局数据清单,结合多级布局策略,完成集成电路产线多级仿真布局。本发明结合智能多模块层级的方法,针对超大规模的集成电路生产线,实现快速、精准的产线布局。
-
公开(公告)号:CN116702301A
公开(公告)日:2023-09-05
申请号:CN202310974734.9
申请日:2023-08-04
Applicant: 中国电子工程设计院有限公司 , 世源科技工程有限公司
Abstract: 本发明公开了一种集成电路产线多级仿真布局的生成方法及装置,方法包括如下步骤:获取集成电路产线布局的需求设备,形成待布局设备清单;按照工艺区域、生产单元和设备的模块层级,对待布局设备清单中的待布局设备进行标签化处理,获得包含模块层级信息的集成电路产线布局数据清单;基于集成电路产线布局数据清单,结合多级布局策略,完成集成电路产线多级仿真布局。本发明结合智能多模块层级的方法,针对超大规模的集成电路生产线,实现快速、精准的产线布局。
-