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公开(公告)号:CN114660820B
公开(公告)日:2024-04-16
申请号:CN202210252762.5
申请日:2022-03-15
Applicant: 中国电子科技集团公司第十三研究所
IPC: G02B27/09
Abstract: 本发明提供了一种大视场多Bar条集成激光发射结构,属于光电技术领域,包括壳体、激光集成单元以及均化透镜。激光集成单元呈阵列排布于壳体内,激光集成单元包括半导体激光器及设于半导体激光器上的预准直微透镜组,预准直微透镜组以对快轴方向和慢轴方向的激光束进行整形。均化透镜封装于壳体上,封装激光集成单元。本发明激光集成单元可根据视场参数进行优化,呈不同形状和不同间距的阵列排布,通过预准直微透镜组对激光器光场进行整形,经均化透镜对光场进行匀化,提高光场均匀性,得到大视场激光输出,有效降低边缘光束的场曲和慧差,扩大激光光场,优化光斑均匀性,满足大视场激光发射要求的激光照明、激光雷达、激光测距。
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公开(公告)号:CN114660820A
公开(公告)日:2022-06-24
申请号:CN202210252762.5
申请日:2022-03-15
Applicant: 中国电子科技集团公司第十三研究所
IPC: G02B27/09
Abstract: 本发明提供了一种大视场多Bar条集成激光发射结构,属于光电技术领域,包括壳体、激光集成单元以及均化透镜。激光集成单元呈阵列排布于壳体内,激光集成单元包括半导体激光器及设于半导体激光器上的预准直微透镜组,预准直微透镜组以对快轴方向和慢轴方向的激光束进行整形。均化透镜封装于壳体上,封装激光集成单元。本发明激光集成单元可根据视场参数进行优化,呈不同形状和不同间距的阵列排布,通过预准直微透镜组对激光器光场进行整形,经均化透镜对光场进行匀化,提高光场均匀性,得到大视场激光输出,有效降低边缘光束的场曲和慧差,扩大激光光场,优化光斑均匀性,满足大视场激光发射要求的激光照明、激光雷达、激光测距。
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