一种悬吊式沉降补偿机构
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115568083A

    公开(公告)日:2023-01-03

    申请号:CN202211315446.4

    申请日:2022-10-26

    Abstract: 本发明涉及一种悬吊式沉降补偿机构,包括横梁和底座,所述底座上设置有滑动组件,所述滑动组件包括第一滑台和设置在所述第一滑台上的第二滑台,所述第一滑台滑动设置在所述底座上,所述第一滑台和所述第二滑台之间的接触面为与水平面成一角度的倾斜面,所述第一滑台和所述第二滑台之间可相对滑动,所述横梁固定在所述第二滑台上,所述第一滑台在所述底座上滑动,以使所述第二滑台和所述横梁沿Z向移动。本发明的悬吊式沉降补偿机构,通过滑动组件可带动横梁和束流元件沿Z向移动,从而实现沉降补偿。

    楔块调节机构
    3.
    发明公开
    楔块调节机构 审中-实审

    公开(公告)号:CN117202569A

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202311386929.8

    申请日:2023-10-24

    Abstract: 本发明涉及一种楔块调节机构,包括外壳,外壳具有安装腔,安装腔内从下至上依次设置有下滑块、楔块和上滑块,下滑块的上表面、楔块的上表面和下表面以及上滑块的下表面均为倾斜面,且下滑块的上表面与楔块的下表面的倾斜方向和倾斜角度均相同,楔块的上表面与上滑块的下表面的倾斜方向和倾斜角度均相同;上滑块的上表面设有用于支撑束流元件的支撑座;外壳上设有Z向调节组件,Z向调节组件与楔块相连并驱动楔块沿下滑块的上表面滑动,以调节束流元件的Z向位置。本发明的楔块调节机构,结构紧凑、自重较轻、强度和刚性较高且具有足够高的调节精度和足够大的调节范围,可以保证束流元件的位置稳定性。

    一种悬吊连接机构
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115654300A

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202211413634.0

    申请日:2022-11-11

    Abstract: 本发明涉及一种悬吊连接机构,包括横梁和底座,所述底座上设有相对于底座固定的滑台座,所述滑台座上设置有滑台,所述横梁设置在所述滑台上,所述滑台座的上表面为Z向位置沿X向均匀变化的倾斜面,所述滑台的下表面与所述滑台座的上表面相匹配,所述滑台设置为通过在所述滑台座上沿X向滑动而调整所述滑台和所述横梁的Z向位置。本发明的悬吊连接机构,通过滑台和滑台座的配合,可实现横梁和模组的Z向位置调整,方便弥补沉降,且滑台座与底座固定,可提高稳定性。

    一种支撑平台热膨胀的控制设备和方法

    公开(公告)号:CN113375542A

    公开(公告)日:2021-09-10

    申请号:CN202110697646.X

    申请日:2021-06-23

    Abstract: 本发明涉及一种支撑平台热膨胀的控制设备,包括:微动台,安装在支撑平台上方,且微动台上安装有被支撑物;位移测量装置,包括参考位移支架,参考位移支架具有支撑部以及与支撑部成90°夹角的延伸部,支撑部平行于支撑平台的高度方向,延伸部平行并高于微动台的上表面,且延伸部上安装有位移传感器,位移传感器设置为感测微动台的上表面与位移传感器之间的距离;控制器,包括电压输入模块和电压输出模块,电压输入模块与位移传感器的信号输出端相连,电压输出模块与微动台的信号输入端相连。本发明还提供一种支撑平台热膨胀的控制方法,本发明结构简单稳定,易于操作,能够在提高束流中心观测精度的同时节约成本。

    一种高稳定性自动调节机构

    公开(公告)号:CN113115506A

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN202110518161.X

    申请日:2021-05-12

    Abstract: 本发明涉及一种高稳定性自动调节机构,包括固定在地面的底板和设置于所述底板上的支撑平台,所述底板和所述支撑平台之间设置有垫板,所述支撑平台为大理石平台,所述支撑平台上固定有电动滑台和温度位移反馈机构。本发明的高稳定性自动调节机构,通过控制装置控制电动滑台对束流元件位置进行调整,可实现微米级别的高精度调节;通过温度位移反馈机构,可精确捕捉和反馈温度变化引起的位移变化,并对束流元件的位置进行相应调整,从而提高束流元件的位置稳定性;采用减振台主动减振,有效衰减支撑平台周围环境传递到束流元件上的振动。

    真空室的支撑装置
    8.
    实用新型

    公开(公告)号:CN220733069U

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202322111775.3

    申请日:2023-08-07

    Abstract: 本实用新型涉及一种真空室的支撑装置,包括:第一支撑机构,包括第一支架和工形梁,工形梁的下翼板固定在第一支架的顶端,工形梁的腹板沿X向延伸,工形梁的上翼板通过第一螺栓调节组件与真空室的Y向的第一侧相连;第二支撑机构,包括第二支架和第二支撑板,第二支撑板固定在第二支架的顶端,第二支撑板通过第二螺栓调节组件与第二侧的中部相连;两第三支撑机构,每个第三支撑机构均包括第三支架和第三支撑板,第三支撑板固定在第三支架的顶端,第三支撑板通过第三螺栓调节组件与第二侧的端部相连。本实用新型的真空室的支撑装置,可实现真空室的矫直和位置调整,以使其满足安装准直要求。

    一种支撑平台热膨胀的控制设备

    公开(公告)号:CN215064307U

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202121400537.9

    申请日:2021-06-23

    Abstract: 本实用新型涉及一种支撑平台热膨胀的控制设备,包括:微动台,安装在支撑平台上方,且微动台上安装有被支撑物;位移测量装置,包括参考位移支架,参考位移支架具有支撑部以及与支撑部成90°夹角的延伸部,支撑部平行于支撑平台的高度方向,延伸部平行并高于微动台的上表面,且延伸部上安装有位移传感器,位移传感器设置为感测微动台的上表面与位移传感器之间的距离;控制器,包括电压输入模块和电压输出模块,电压输入模块与位移传感器的信号输出端相连,电压输出模块与微动台的信号输入端相连。本实用新型结构简单稳定,易于操作,能够在提高束流中心观测精度的同时节约成本。

    多束流元件机械支撑机构
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219911613U

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202321434575.5

    申请日:2023-06-06

    Abstract: 本实用新型涉及一种多束流元件机械支撑机构,包括底座和主支撑台,所述主支撑台固定在所述底座上,所述底座固定在地面;所述主支撑台的顶部设置有两第一支撑台和位移台,两第一支撑台分别位于所述主支撑台的X向相对的两侧,所述位移台位于两第一支撑台之间;两第一支撑台和所述位移台均与所述主支撑台可拆卸连接;所述主支撑台上设有Y向振动传感器和Z向振动传感器,所述位移台与所述Y向振动传感器和Z向振动传感器电连接。本实用新型的多束流元件机械支撑机构,主支撑台上安装有多个第一支撑台和位移台,分别用于支撑不同的束流元件,从而实现多束流元件的稳定支撑。

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