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发明公开
一种原岩结构面制造方法、装置及原岩结构面无效

公开(公告)号：CN107560908A

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201710784710.1

申请日：2017-09-04

Applicant: 中国科学院武汉岩土力学研究所

Inventor： 周辉 , 程广坦 , 卢景景 , 朱勇 , 陈珺 , 崔国建 , 李振国

IPC: G01N1/28 , G01N1/36

Abstract: 本发明提供了一种原岩结构面制造方法、装置及原岩结构面，涉及岩石力学领域。其中，原岩结构面制造方法包括：扫描原岩结构面样品，生成扫描曲面；依据扫描曲面对岩石试样进行雕刻，以得到原岩结构面。在本发明中，先得到原岩结构面样品的扫描曲面，再根据扫描曲面对岩石样品进行雕刻，得到原岩结构面。使原岩结构面的表面特征与原岩结构面样品的表面特征相同。原岩结构面的物理性能与原岩结构面样品的物理性能相同，能够提高原岩结构面在剪切试验过程中的精度。

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