一种铜箔的表面处理方法及铜箔材料

    公开(公告)号:CN111074317B

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN201911389914.0

    申请日:2019-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种铜箔的表面处理方法及铜箔材料。所述表面处理方法包括:至少使作为阴极的铜箔、阳极与电解液共同构建电化学反应体系,然后使所述电化学反应体系通电,以硬脂酸为软模板,在所述铜箔表面电化学沉积形成微观形貌为麦穗状的高比表面积结构的金属铜沉积层,再对所述金属铜沉积层进行洗脱处理;其中,所述电解液包括铜离子、硬脂酸和盐酸的混合液。本发明提供的铜箔表面处理方法中,以硬脂酸为软模板,在铜箔表面形成微观形貌为麦穗状高比表面积结构的铜沉积层,该工艺简单,可连续化生产,是一种高效的铜箔表面处理工艺;本发明制备的微观形貌为麦穗状的高比表面积结构的铜箔产品在锂离子电池、电催化领域等有很好的应用前景。

    一种铜箔的表面处理方法及铜箔材料

    公开(公告)号:CN111074317A

    公开(公告)日:2020-04-28

    申请号:CN201911389914.0

    申请日:2019-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种铜箔的表面处理方法及铜箔材料。所述表面处理方法包括:至少使作为阴极的铜箔、阳极与电解液共同构建电化学反应体系,然后使所述电化学反应体系通电,以硬脂酸为软模板,在所述铜箔表面电化学沉积形成微观形貌为麦穗状的高比表面积结构的金属铜沉积层,再对所述金属铜沉积层进行洗脱处理;其中,所述电解液包括铜离子、硬脂酸和盐酸的混合液。本发明提供的铜箔表面处理方法中,以硬脂酸为软模板,在铜箔表面形成微观形貌为麦穗状高比表面积结构的铜沉积层,该工艺简单,可连续化生产,是一种高效的铜箔表面处理工艺;本发明制备的微观形貌为麦穗状的高比表面积结构的铜箔产品在锂离子电池、电催化领域等有很好的应用前景。

    一种方波电化学蚀刻制备多孔铜箔的方法

    公开(公告)号:CN110983422A

    公开(公告)日:2020-04-10

    申请号:CN201911388399.4

    申请日:2019-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种方波电化学蚀刻制备多孔铜箔的方法。所述方法包括:至少以作为工作电极的无孔铜箔与对电极以及蚀刻液构建电化学反应体系,所述蚀刻液采用包含强酸和弱酸的酸性水溶液,其中弱酸成分能够对金属铜的晶面进行保护,而所述强酸能够蚀刻金属铜;采用方波电蚀刻法,通过对所述工作电极施加方波电位,实现对所述无孔铜箔的方波电化学蚀刻,从而获得多孔铜箔。本发明利用弱酸可吸附在金属铜某些晶面上并形成保护的特点,同时混以起主要蚀刻作用的强酸,在铜箔表面达到选择性蚀刻的目的,采用方波电蚀刻法可通过控制工艺参数得到孔径较小的多孔铜箔,其孔径分布均匀,外观形貌良好;并且,该方法简单易操作,所获产品质量稳定性较高。

    一种方波电化学蚀刻制备多孔铜箔的方法

    公开(公告)号:CN110983422B

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN201911388399.4

    申请日:2019-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种方波电化学蚀刻制备多孔铜箔的方法。所述方法包括:至少以作为工作电极的无孔铜箔与对电极以及蚀刻液构建电化学反应体系,所述蚀刻液采用包含强酸和弱酸的酸性水溶液,其中弱酸成分能够对金属铜的晶面进行保护,而所述强酸能够蚀刻金属铜;采用方波电蚀刻法,通过对所述工作电极施加方波电位,实现对所述无孔铜箔的方波电化学蚀刻,从而获得多孔铜箔。本发明利用弱酸可吸附在金属铜某些晶面上并形成保护的特点,同时混以起主要蚀刻作用的强酸,在铜箔表面达到选择性蚀刻的目的,采用方波电蚀刻法可通过控制工艺参数得到孔径较小的多孔铜箔,其孔径分布均匀,外观形貌良好;并且,该方法简单易操作,所获产品质量稳定性较高。

    一种石墨复合铜箔及其制备方法

    公开(公告)号:CN110965085B

    公开(公告)日:2021-10-12

    申请号:CN201911388337.3

    申请日:2019-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种石墨复合铜箔及其制备方法。所述制备方法包括:使阳极、阴极辊、电解液共同构建电化学反应体系,所述电解液为包含铜离子和石墨颗粒的混合液,石墨颗粒的粒径为500nm~500μm;向电解液体系通电进行电解反应,Cu2+在阴极辊表面电沉积生成金属铜,同时将溶液中存在的石墨颗粒包裹在其中,形成内部结构和表面均含有石墨的石墨复合铜箔。本发明的石墨复合铜箔既拥有多孔铜箔的优点,也可解决多孔铜箔中石墨颗粒与铜箔孔径无法完全吻合的问题,铜箔内部结构因为被石墨填充而得到支撑,相比内部存在大量空隙对的多孔铜箔导电和力学性能更好,铜箔表面分布有大量石墨颗粒,同样可显著提升铜箔的比表面积、导电性能。

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