公开(公告)号：CN119706851A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202411968360.0

申请日：2024-12-30

Applicant: 中触媒新材料股份有限公司

Inventor： 李延鑫 ,  姜佳伟 ,  胡一鸣 ,  孙宏亮 ,  王春燕 ,  续晶华 ,  蒋山 ,  李进

IPC: C01B33/12

Abstract: 本发明公开了一种低羟基高纯度合成石英砂的制备方法，属于化工生产技术领域。包括如下步骤：S1、制备湿凝胶；S2、重整定型；S3、表面处理；S4、焙烧；S5、纯化。该有效方法解决了现有传统合成石英砂，残炭高、羟基数，以及理想粒径范围宽，收率偏低问题。通过控制硅醇盐、水溶剂，微量石英砂、硅粉等合适比例合成湿凝胶胶体，结合所述重整定型装置和所述水汽生成器装置，在加热气流扰动下，结合合适焙烧途径、纯化方式直接获得纯度高的高堆积密度粒径适合且羟基含量较低的合成石英砂，是一种更有效的应用于合成石英砂工业放大生产的制备方法。

公开(公告)号：CN119750592A

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202411945339.9

申请日：2024-12-27

Applicant: 中触媒新材料股份有限公司

Inventor： 王春燕 ,  李延鑫 ,  孙宏亮 ,  姜佳伟 ,  胡一鸣 ,  续晶华 ,  蒋山

IPC: C01B33/141 ,  B82Y30/00 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明提供了一种金属杂质含量低的胶体二氧化硅及其制备方法和应用，属于抛光液技术领域。本发明在搅拌条件下，将有机碱溶液与超纯水混合，得到母液；将所述母液加热至回流状态，匀速滴加硅酸烷基酯水解液，以控制二氧化硅颗粒的生长速度，从而制得残存的硅烷醇基少的二氧化硅颗粒，同时添加碱性催化剂以维持反应液的pH值为7～10，促进硅酸烷基酯进一步水解，并防止反应液凝胶化，保障水解反应的正常进行，经加热浓缩，得到金属杂质含量低的胶体二氧化硅。本发明提供的方法制备的所述胶体二氧化硅，金属杂质含量低和粒径可控，粒径大小均一，形貌规则，能够作为CMP抛光液研磨粒子，且本发明的方法操作简单，成本低，适合规模化生产。

公开(公告)号：CN119750593A

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202411945340.1

申请日：2024-12-27

Applicant: 中触媒新材料股份有限公司

Inventor： 王春燕 ,  李延鑫 ,  胡一鸣 ,  孙宏亮 ,  姜佳伟 ,  续晶华 ,  蒋山

IPC: C01B33/141 ,  B82Y30/00 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明提供了一种单分散、粒径可控的胶体二氧化硅及其制备方法和应用，属于抛光液技术领域。本发明首先制备母液，再加热至回流状态，匀速滴加硅酸烷基酯水解液，以控制二氧化硅颗粒的生长速度，硅酸烷基酯水解液的预先制备使硅酸烷基酯在更高温度下进行颗粒生长，从而可制得单分散性更好的二氧化硅颗粒，添加碱性催化剂以维持反应液的pH值，促进硅酸烷基酯进一步水解，并防止反应液凝胶化，保障水解反应的正常进行，经加热浓缩除去醇，得到单分散、粒径可控的胶体二氧化硅。本发明制备的所述胶体二氧化硅，粒径大小均一，形貌规则，硬度适中、稳定性好和分散性好，能够作为CMP抛光液研磨粒子，且本发明的方法操作简单，成本低，适合规模化生产。