-
公开(公告)号：CN105499228B
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201510828457.6
申请日：2015-11-25
Applicant: 中锗科技有限公司 , 南京中锗科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开一种太阳能锗片包装用晶圆盒的清洗方法，包括如下步骤：(1)整理使用过的废旧晶圆盒，将其中未破损的整理成套；(2)将整理好的待清洗的废旧晶圆盒放入冰醋酸和去离子水组成的混合溶液中，进行酸洗；(3)将步骤(2)处理后的晶圆盒放入化蜡剂和去离子水组成的混合溶液中清洗，混合溶液温度为60～70℃；(4)在常温状态下进行酒精置换；(5)晾干清洗完成的晶圆盒。采用本发明的清洗方法清洗后的废旧晶圆盒，表面洁净度接近新盒，可以再次使用，不会影响太阳能锗片的质量，大幅度的降低了产品的生产成本；本发明所采用的材料冰醋酸、化蜡剂、去离子水和酒精均为低成本的常用化学用品，进一步降低了生产成本。
-
公开(公告)号：CN105499228A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201510828457.6
申请日：2015-11-25
Applicant: 中锗科技有限公司 , 南京中锗科技有限责任公司
CPC classification number: B08B9/0861 , C11D1/00 , C11D3/02 , C11D3/16 , C11D3/43
Abstract: 本发明公开一种太阳能锗片包装用晶圆盒的清洗方法，包括如下步骤：(1)整理使用过的废旧晶圆盒，将其中未破损的整理成套；(2)将整理好的待清洗的废旧晶圆盒放入冰醋酸和去离子水组成的混合溶液中，进行酸洗；(3)将步骤(2)处理后的晶圆盒放入化蜡剂和去离子水组成的混合溶液中清洗，混合溶液温度为60～70℃；(4)在常温状态下进行酒精置换；(5)晾干清洗完成的晶圆盒。采用本发明的清洗方法清洗后的废旧晶圆盒，表面洁净度接近新盒，可以再次使用，不会影响太阳能锗片的质量，大幅度的降低了产品的生产成本；本发明所采用的材料冰醋酸、化蜡剂、去离子水和酒精均为低成本的常用化学用品，进一步降低了生产成本。
-
公开(公告)号：CN105710066A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201610151254.2
申请日：2016-03-16
Applicant: 中锗科技有限公司
CPC classification number: B08B3/02 , B08B3/08 , B08B3/10 , C11D7/265 , C11D11/0047
Abstract: 本发明公开一种去除太阳能锗单晶片抛光残留药剂的方法，包括如下步骤：清洗剂准备：将草酸溶于去离子水中，配制成浓度为0.05～0.15mol/L的草酸清洗剂，并向带有药液循环系统的清洗槽中加入10～20L上述清洗剂，清洗剂保持循环；初步清洗；清洗剂清洗：将装入锗晶片周转盒浸入备好清洗剂中，并沿锗晶片表面的平行方向摆动周转盒5～30S，后将周转盒在清洗剂中静置5～30S；后处理。本发明提供的方法中，引入草酸稀溶液来将残留次氯酸盐反应掉后再冲洗干净，解决了次氯酸盐药剂残留对锗片抛光面持续腐蚀造成的后续产品不良，大大降低了化学机械抛光后锗晶片表面药物残留概率，因药剂残留导致的报废/返工率由11.8％降低到了0.4％。
-
公开(公告)号：CN105710066B
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201610151254.2
申请日：2016-03-16
Applicant: 中锗科技有限公司
Abstract: 本发明公开一种去除太阳能锗单晶片抛光残留药剂的方法，包括如下步骤：清洗剂准备：将草酸溶于去离子水中，配制成浓度为0.05～0.15mol/L的草酸清洗剂，并向带有药液循环系统的清洗槽中加入10～20L上述清洗剂，清洗剂保持循环；初步清洗；清洗剂清洗：将装入锗晶片周转盒浸入备好清洗剂中，并沿锗晶片表面的平行方向摆动周转盒5～30S，后将周转盒在清洗剂中静置5～30S；后处理。通过引入草酸稀溶液来将残留次氯酸盐反应掉后再冲洗干净，解决了次氯酸盐药剂残留对锗片抛光面持续腐蚀造成的后续产品不良，大大降低了化学机械抛光后锗晶片表面药物残留概率，因药剂残留导致的报废/返工率由11.8％降低到了0.4％。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.053 seconds)
