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公开(公告)号：CN1203375C
公开(公告)日：2005-05-25
申请号：CN00108316.3
申请日：2000-03-24
Applicant: 丰和工业株式会社
Inventor： 冈本惇
Abstract: 一种双侧曝光系统(1)，其包括第1作业保持装置(21L)，该装置用于保持与曝光掩模(55)相对的基板(P)，以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第1表面进行曝光；第2作业保持装置(21R)，其用于保持与另一曝光掩模(55)相对的该基板(P)，以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第2表面进行曝光。可使未曝光的基板的接纳，转移和预处理操作阶段，以及具有一个已曝光表面的基板的接纳，转移和预处理操作阶段错开，以便防止在曝光操作过程中进行等待而造成的时间损失。
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公开(公告)号：CN1173224C
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN00106519.X
申请日：2000-02-29
Applicant: 丰和工业株式会社
Inventor： 冈本惇
CPC classification number: G03B27/62
Abstract: 一种用于夹持形成印刷线路板的面板的竖直的校正工作台机构，该机构具有竖直的支承壁，和与支承壁前表面相面对的竖直设置的校正工作台，该工作台的窗口上设有曝光板。该校正工作台借助多个工作台支承部件支承在支承壁上并可在竖直面上移动。每一工作台支承部件包括固定于支承壁上的球状脚轮，该脚轮内有球体，支承部件还包括固定在校正工作台上的接触块。拉伸弹簧迫使接触块的表面和球体相抵靠。工作台移动部件也设置于支承壁和校正工作台之间。每一工作台移动部件包括校正工作台上的接触块和支承壁上的随动辊轮。弹簧迫使随动辊轮抵靠在接触块上。脉冲马达产生校正工作台相对于支承壁的移动。
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公开(公告)号：CN1315677A
公开(公告)日：2001-10-03
申请号：CN00108316.3
申请日：2000-03-24
Applicant: 丰和工业株式会社
Inventor： 冈本惇
Abstract: 一种双侧曝光系统(1),其包括第1作业保持装置(21L),该装置用于保持与曝光掩模(55)相对的基板(P),以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第1表面进行曝光;第2作业保持装置(21R),其用于保持与另一曝光掩模(55)相对的该基板(P),以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第2表面进行曝光。可使未曝光的基板的接纳,转移和预处理操作阶段,以及具有一个已曝光表面的基板的接纳,转移和预处理操作阶段错开,以便防止在曝光操作过程中进行等待而造成的时间损失。
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公开(公告)号：CN1311626A
公开(公告)日：2001-09-05
申请号：CN00106519.X
申请日：2000-02-29
Applicant: 丰和工业株式会社
Inventor： 冈本惇
CPC classification number: G03B27/62
Abstract: 一种用于夹持形成印刷线路板的面板25的竖直的校正工作台机构21,该机构具有竖直的支承壁43,和与支承壁43前表面相面对的竖直设置的校正工作台33,该工作台的窗口上设有曝光板23。该校正工作台借助多个工作台支承部件35支承在支承壁43上并可在竖直面上移动。每一工作台支承部件35包括固定于支承壁43上的球状脚轮51,该脚轮内有球体51a,支承部件还包括固定在校正工作台33上的接触块53。拉伸弹簧55迫使接触块53的表面和球体相抵靠。工作台移动部件37也设置于支承壁43和校正工作台33之间。每一工作台移动部件37包括校正工作台33上的接触块85和支承壁43上的随动辊轮83。弹簧87迫使随动辊轮83抵靠在接触块85上。脉冲马达71产生校正工作台33相对于支承壁35的移动。
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