公开(公告)号：CN113149309A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN202110317375.0

申请日：2021-03-23

Applicant: 云南国钛金属股份有限公司

Inventor： 韩钰 ,  郭在伟 ,  祝袁园 ,  孙存山 ,  李维维 ,  高海洲 ,  卢伟伟 ,  杨彦杰

IPC: C02F9/10

Abstract: 本发明公开了一种海绵钛工业废水处理系统及工艺，解决了现有技术中海绵钛工业中高浓度废水与低浓度废水混合处理带来的高成本和高排放问题。本发明将海绵钛工业废水中高盐水和低盐水分级处理；其中高浓度废水处理包括pH调节池、软化反应池、混凝池、管式膜微滤、污泥浓缩池、纳滤(NF装置)、反渗透、浓缩(碟管式反渗透膜装置)及除盐(机械蒸汽再压缩装置)，低浓度废水处理包括多介质过滤器、超滤、反渗透。低浓度废水经反渗透产生的清水直接回用，浓盐水采用泵输送至高浓度废水调节池进行处理。通过这种处理方式有效解决了海绵钛工业中高盐水与低盐水混合处理带来的高成本和高排放问题，实现了全部水回用及零排放，适用于海绵钛工业废水的处理。

公开(公告)号：CN113029071B

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202110141392.3

申请日：2021-01-28

Applicant: 云南国钛金属股份有限公司

Inventor： 郭在伟 ,  韩钰 ,  祝袁园 ,  孙存山 ,  李进 ,  卢伟伟 ,  宁德厚 ,  杨伟光 ,  刘啟建

IPC: G01B21/08 ,  G01F23/284 ,  G01F23/292

Abstract: 本发明公开了一种精确测量镁电解槽中镁的厚度和液位的装置及方法，属于镁电解技术领域。解决了现有技术中无法方便、快捷的测出镁电解槽中镁层的厚度和液位的问题。本发明包括设置在电解槽壳体(8)上的第一测量筒(2)和第二测量筒(5)，所述第一测量筒(2)和第二测量筒(5)上均设置有测距装置(1)，所述第一测量筒(2)的下端位于镁层(9)的上方，所述第二测量筒(5)的下端位于镁层(9)下方的氯化镁(10)中。本发明通过测距装置可以直接测量出镁层的液位，通过电解质(氯化镁)密度和镁密度的差异，比对两个测距装置测量值的差异即可计算出镁层的厚度，方便快捷，测量精度高。

公开(公告)号：CN113029071A

公开(公告)日：2021-06-25

申请号：CN202110141392.3

申请日：2021-01-28

Applicant: 云南国钛金属股份有限公司

Inventor： 郭在伟 ,  韩钰 ,  祝袁园 ,  孙存山 ,  李进 ,  卢伟伟 ,  宁德厚 ,  杨伟光 ,  刘啟建

IPC: G01B21/08 ,  G01F23/284 ,  G01F23/292

Abstract: 本发明公开了一种精确测量镁电解槽中镁的厚度和液位的装置及方法，属于镁电解技术领域。解决了现有技术中无法方便、快捷的测出镁电解槽中镁层的厚度和液位的问题。本发明包括设置在电解槽壳体(8)上的第一测量筒(2)和第二测量筒(5)，所述第一测量筒(2)和第二测量筒(5)上均设置有测距装置(1)，所述第一测量筒(2)的下端位于镁层(9)的上方，所述第二测量筒(5)的下端位于镁层(9)下方的氯化镁(10)中。本发明通过测距装置可以直接测量出镁层的液位，通过电解质(氯化镁)密度和镁密度的差异，比对两个测距装置测量值的差异即可计算出镁层的厚度，方便快捷，测量精度高。

公开(公告)号：CN214583140U

公开(公告)日：2021-11-02

申请号：CN202120291734.5

申请日：2021-01-28

Applicant: 云南国钛金属股份有限公司

Inventor： 郭在伟 ,  韩钰 ,  祝袁园 ,  孙存山 ,  李进 ,  卢伟伟 ,  宁德厚 ,  杨伟光 ,  刘啟建

IPC: G01B21/08 ,  G01F23/00

Abstract: 本实用新型公开了一种精确测量镁电解槽中镁的厚度和液位的装置，属于镁电解技术领域。解决了现有技术中无法方便、快捷的测出镁电解槽中镁层的厚度和液位的问题。本实用新型包括设置在电解槽壳体(8)上的第一测量筒(2)和第二测量筒(5)，所述第一测量筒(2)和第二测量筒(5)上均设置有测距装置(1)，所述第一测量筒(2)的下端位于镁层(9)的上方，所述第二测量筒(5)的下端位于镁层(9)下方的氯化镁(10)中。本实用新型通过测距装置可以直接测量出镁层的液位，通过电解质(氯化镁)密度和镁密度的差异，比对两个测距装置测量值的差异即可计算出镁层的厚度，方便快捷，测量精度高。