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公开(公告)号:CN119105209A
公开(公告)日:2024-12-10
申请号:CN202411480110.2
申请日:2024-10-22
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/1333 , G03B21/16
Abstract: 本申请提供一种显示装置以及电子设备,涉及显示技术领域,所述显示装置包括:盒体,所述盒体围合形成容纳空间;显示面板,所述显示面板设置在所述容纳空间内部;半导体制冷模块,所述半导体制冷模块贴附设置在所述显示面板的背光侧,所述半导体制冷模块包括:相变材料层,所述相变材料层在所述显示面板上的正投影至少覆盖所述显示面板的显示区,所述相变材料层用于传递所述显示面板产生的热量;半导体制冷单元,所述半导体制冷单元设置在所述相变材料层沿第一方向的一侧,所述半导体制冷单元用于接收并导出所述相变材料层传递的热量,所述第一方向为所述相变材料层的中心区域指向边缘的方向。
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公开(公告)号:CN118192116A
公开(公告)日:2024-06-14
申请号:CN202410431114.5
申请日:2024-04-10
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/1335
Abstract: 一种显示面板及显示装置。显示面板包括液晶盒、第一调光组件、第二调光组件、第三调光组件及背光模组;第一调光组件和第二调光组件位于液晶盒相对两侧,第三调光组件位于第二调光组件远离液晶盒一侧;第一调光组件具有第一透光轴,第二调光组件具有第二透光轴,第二调光组件被配置为仅允许偏振方向与第二透光轴平行的光透射,反射偏振方向与第二透光轴垂直的光;第三调光组件具有第三透光轴,第三调光组件被配置为吸收偏振方向与第三透光轴垂直的光,仅允许偏振方向与第三透光轴平行的光透射;第一透光轴与第二透光轴平行,且第二透光轴与第三透光轴不垂直且不平行;背光模组位于第三调光组件远离液晶盒的一侧,可以解决显示亮度不良等问题。
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公开(公告)号:CN117970717A
公开(公告)日:2024-05-03
申请号:CN202211313806.7
申请日:2022-10-25
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/137 , G02F1/133 , G02F1/1333
Abstract: 本申请实施例提供一种显示器以及显示器的制备方法,其中,该显示器包括第一基板、液晶层和第二基板;液晶层设于第一基板和第二基板之间,液晶层中设有胆甾相液晶,胆甾相液晶在通电状态下呈锥形螺旋结构,用于反射波长与锥形螺旋结构的螺距相对应的入射光,螺距与胆甾相液晶的通电电压相关联;其中,第一基板包括温度调节层,用于使胆甾相液晶在通电状态下处于预设温度范围。根据本申请的技术,降低了外界环境的温度变化对胆甾相液晶的工作温度产生的影响,从而使胆甾相液晶的工作温度恒定,进而确保了胆甾相液晶具备稳定的的光学特性和化学特性。
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公开(公告)号:CN117389079A
公开(公告)日:2024-01-12
申请号:CN202311489791.4
申请日:2023-11-09
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1333 , G02F1/133
Abstract: 公开一种显示装置,包括背光模组和位于所述背光模组出光侧的显示面板,所述显示面板具有显示区和位于所述显示区周边的非显示区,所述显示区包括多个像素开口区以及环绕所述像素开口区的非开口区;所述显示面板包括:相对设置的第一基板和第二基板,所述第二基板位于所述第一基板远离所述背光模组的一侧;遮光器件层,设置在所述第一基板朝向所述第二基板的一侧,且位于所述非开口区;至少一个第一太阳能电池,设置在所述遮光器件层与所述背光模组之间,且位于所述非开口区。
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公开(公告)号:CN117280274A
公开(公告)日:2023-12-22
申请号:CN202280003811.X
申请日:2022-10-26
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC: G02F1/133
Abstract: 一种显示面板(10)和显示装置。显示面板(10)包括液晶盒(100),第一偏光组件(102)以及第二偏光组件(103)。第一偏光组件(102)至少包括具有第一透光轴的第一偏光层(1021),用于生成偏振方向与第一透光轴平行的偏振光。第二偏光组件(103)至少包括透反层(1031)和光吸收层(1032)。透反层(1031)具有第二透光轴,用于透射偏振方向与第二透光轴平行的偏振光,且用于反射偏振方向与第二透光轴垂直的偏振光。光吸收层(1032)用于吸收透反层透射的偏振光。
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公开(公告)号:CN114779547B
公开(公告)日:2023-11-03
申请号:CN202210594615.6
申请日:2022-05-27
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC: G02F1/1362
Abstract: 本公开实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括:依次设置在基底一侧的第一金属层、第一绝缘层、第一导电层、第二绝缘层和第二导电层;第一金属层包括多条沿第二方向延伸并沿第一方向排布的数据线,数据线位于相邻的两个子像素区域之间,第二方向与第一方向不平行;第一导电层与显示基板中的公共电极信号连接;第二导电层包括多个像素电极,每个所述子像素区域内设置一个所述像素电极,所述像素电极通过第一过孔与所述薄膜晶体管的第二极连接,所述第一过孔贯穿所述第二绝缘层和所述第一绝缘层,所述第一过孔在所述基底上的正投影与所述承载电极块在所述基底上的正投影至少部分交叠。本公开的技术方案,提升了显示基板的光效和透过率。
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公开(公告)号:CN115735275A
公开(公告)日:2023-03-03
申请号:CN202180001156.X
申请日:2021-05-14
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC: H01L27/12
Abstract: 一种显示基板、显示面板及显示装置,显示基板包括:衬底基板(1);第一电极层(4);包括:多条第一信号线(5);第一绝缘层(13),包括多个第一过孔(14),第一过孔(14)在衬底基板(1)的正投影落入第一信号线(5)在衬底基板(1)的正投影内;第二电极层(15),包括多个第一连接电极(16);第一连接电极(16)通过第一过孔(14)与第一信号线(5)连接;第二绝缘层(17),位于第二电极层(15)背离第一绝缘层(13)的一侧,包括:多个第二过孔(20);第二过孔(20)在衬底基板(1)的正投影落入第一连接电极(16)在衬底基板(1)的正投影内,第二过孔(20)在衬底基板(1)的正投影与第一过孔(14)在衬底基板(1)的正投影错位设置;第三电极层(18),位于第二绝缘层(17)背离第二电极层(15)一侧,包括多个第一电极(19);第一电极(19)通过第二过孔(20)与第一连接电极(16)电连接。
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公开(公告)号:CN119404133A
公开(公告)日:2025-02-07
申请号:CN202380008901.2
申请日:2023-04-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC: G02F1/1362
Abstract: 一种显示基板、显示面板和显示装置,其中,显示基板包括:第一衬底基板(101);设置在第一衬底基板(101)上的第一透明电极层(110);设置在第一透明电极层(110)背离第一衬底基板(101)一侧的第二透明电极层(120);设置在第一透明电极层(110)中的M条第一公共信号线(111)和N条第二公共信号线(112),M条第一公共信号线(111)通过N条第二公共信号线(112)电连接;以及,设置在第一衬底基板(101)上的子像素(PX);其中,子像素(PX)包括位于第二透明电极层(120)中的像素电极(121),M条第一公共信号线(111)和N条第二公共信号线(112)围成透明导电结构(D);以及,在显示基板的厚度方向上,像素电极(121)与透明导电结构(D)存在交叠,且在交叠区域,像素电极(121)与透明导电结构(D)配置为形成子像素(PX)的存储电容(Cst);M和N均为正整数。
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公开(公告)号:CN115220216B
公开(公告)日:2025-01-24
申请号:CN202210674414.7
申请日:2022-06-14
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC: G02B26/00
Abstract: 本公开提供一种电润湿显示面板及其制备方法、显示装置。该电润湿显示面板中,像素墙设置在第一基板朝向第二基板的表面上以限定多个像素空间,像素空间内填充有非极性液体和极性液体;第一基板包括:沿第一基板指向第二基板方向依次层叠设置的第一基底、像素电极层和疏水层,像素电极层包括与多个像素空间一一对应的多个像素电极,疏水层远离第一基底的表面包括与所述多个像素空间一一对应的多个凹槽状区域,所述像素电极与对应的像素空间相对设置,所述凹槽状区域与对应的像素空间相对设置;第二基板包括:公共电极。电润湿显示面板的亮度和对比度增强。
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公开(公告)号:CN119065206A
公开(公告)日:2024-12-03
申请号:CN202310639387.4
申请日:2023-05-31
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种拼接曝光方法、阵列基板和电子设备,该方法包括:针对第一膜层,按照第一预设曝光区拼接缝对所述第一膜层进行拼接曝光,其中,所述第一预设曝光区拼接缝与所述第一膜层的第一预设图形的边界之间的夹角小于第一预设角度,且所述第一预设曝光区拼接缝与所述第一预设图形的边界之间的最小间距不小于第一预设间距。通过按照与图形边界间隔开的预设曝光区拼接缝对膜层进行拼接曝光,有利于确保在该膜层得到完整正确的图形,提高产品的制造良率。
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