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公开(公告)号：CN118743003A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202380023237.9
申请日：2023-03-16
Applicant: 仓敷纺绩株式会社
IPC: H01L21/306 , G01N21/3577 , G01N21/59 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种在将处理液供给至基板上而进行的逐片式处理中监控基板处理状况的装置。基板处理状况监控装置(20)是对将处理液(S)供给至旋转的基板(W)上而进行的基板处理的状况进行监控的装置，包括：投光部(22)，朝向所述基板照射光；光接收部(22)，接收在所述处理液中通过后的光；测光部(23)，将所述光接收部所接收的光同时分光为多个波长，并同时测定所述多个波长的光强度；以及运算部(24)，根据所述测光部所测定出的所述多个波长的光强度来生成分光光谱，将所述分光光谱与参照光谱或在所述基板处理中之前生成的过去的所述分光光谱进行比较，由此来探测所述基板处理的状况的变化。
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