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公开(公告)号：CN112711087A
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN202011151981.1
申请日：2020-10-23
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明提供一种能够一边使处理偏振膜的前体的处理溶液充分地保持清洁状态一边制造偏振膜的偏振膜的制造方法及制造装置。一种偏振膜的制造方法，其包含：用第1溶液处理偏振膜的前体的前体处理工序；和使处理偏振膜的前体之后的第1溶液与电极组接触而进行析出处理，由此形成第2溶液的电解处理工序，所述偏振膜的制造方法还包含调节处理偏振膜的前体之后的第1溶液的pH值的第一pH调节工序以及调节第2溶液的pH值的第二pH调节工序中的至少任一工序。
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