单张涂膜形成装置及单张涂膜形成方法

    公开(公告)号:CN100478083C

    公开(公告)日:2009-04-15

    申请号:CN200510006324.7

    申请日:2005-01-26

    Abstract: 本发明提供一种单张涂膜形成装置以及单张涂膜形成方法,其不会产生涂膜的膜厚、色度及/或光学浓度的离散,且可以在板状被处理物上形成预定膜厚、色度及/或光学浓度。本发明的单张涂膜形成装置包括:由狭缝喷嘴向板状被处理物的表面供给涂布液的涂布装置、对涂布在前述板状被处理物的表面上的涂布液进行干燥的减压干燥装置、对前述干燥后的涂布液进行加热的加热装置,在单张涂膜形成装置中设置测定装置,对由前述加热装置加热后的前述板状被处理物的膜厚、色度及/或光学浓度进行测定,并将其测定结果转送给前述涂布装置。

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