用于制备光敏有机电子器件的溶剂体系

    公开(公告)号:CN110462864B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN201880021760.7

    申请日:2018-03-15

    Abstract: 一种配制物,其包含n型有机半导体、p型有机半导体和溶剂混合物,所述溶剂混合物包含第一溶剂和第二溶剂,其中所述第一溶剂是烷基化芳族烃,例如三甲基苯,以及所述第二溶剂是取代有两个或更多个取代基的苯,所述取代基包括至少两个C1‑6烷氧基,例如二甲氧基苯。该配制物可用于形成光敏有机电子器件例如有机光检测器的光活性层(3),所述光敏有机电子器件包括阳极(2)、阴极(4)以及在阳极与阴极之间的光活性层。

    用于制备光敏有机电子器件的溶剂体系

    公开(公告)号:CN110462864A

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201880021760.7

    申请日:2018-03-15

    Abstract: 一种配制物,其包含n型有机半导体、p型有机半导体和溶剂混合物,所述溶剂混合物包含第一溶剂和第二溶剂,其中所述第一溶剂是烷基化芳族烃,例如三甲基苯,以及所述第二溶剂是取代有两个或更多个取代基的苯,所述取代基包括至少两个C1-6烷氧基,例如二甲氧基苯。该配制物可用于形成光敏有机电子器件例如有机光检测器的光活性层(3),所述光敏有机电子器件包括阳极(2)、阴极(4)以及在阳极与阴极之间的光活性层。

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