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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116390824A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202180071677.2
申请日：2021-02-17
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
IPC: B23C5/16
Abstract: 一种切削工具，其具备基材、以及设置于上述基材上的硬质层，其中，上述硬质层包含第一单位层与第二单位层，上述硬质层中，上述第一单位层与上述第二单位层分别交替层叠有一层以上，上述第一单位层的厚度为2nm以上且100nm以下，上述第二单位层的厚度为2nm以上且100nm以下，上述第一单位层由TiaAlbBcN所示的化合物构成，上述第二单位层由TidAleBfN所示的化合物构成，上述TiaAlbBcN中的钛元素的原子比a为0.25以上且小于0.45，上述TiaAlbBcN中的铝元素的原子比b为0.55以上且小于0.75，上述TiaAlbBcN中的硼元素的原子比c超过0且为0.1以下，上述原子比a、上述原子比b以及上述原子比c总计为1，上述TidAleBfN中的钛元素的原子比d为0.35以上且小于0.55，上述TidAleBfN中的铝元素的原子比e为0.45以上且小于0.65，上述TidAleBfN中的硼元素的原子比f超过0且为0.1以下，上述原子比d、上述原子比e以及上述原子比f总计为1，上述原子比a以及上述原子比d满足0.05≤d‑a≤0.2，上述原子比b以及上述原子比e满足0.05≤b‑e≤0.2。
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公开(公告)号：CN115226395A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202180013641.9
申请日：2021-02-17
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 一种切削工具，具备：基材和设置在上述基材上的硬质层，上述硬质层由TiaAlbBcN所表示的化合物构成，上述TiaAlbBcN的钛元素的原子比a为0.25以上且小于0.55，上述TiaAlbBcN的铝元素的原子比b为0.45以上且小于0.75，上述TiaAlbBcN的硼元素的原子比c超过0且为0.1以下，上述原子比a、上述原子比b及上述原子比c的合计为1，上述硬质层的(200)面的X射线衍射峰的强度I(200)相对于(002)面的X射线衍射峰的强度I(002)的比I(200)/I(002)为2以上10以下，上述(002)面的X射线衍射峰的半值宽度为2度以上8度以下。
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公开(公告)号：CN118265586A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202280076897.9
申请日：2022-06-15
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 一种切削工具，其包括基材、以及设置于所述基材上的覆膜，所述覆膜包括第一层，所述第一层由第一单元层与第二单元层交替层叠而成的多层结构构成，所述第一单元层的厚度为2nm以上且50nm以下，所述第二单元层的厚度为2nm以上且50nm以下，所述第一层的厚度为1.0μm以上且20μm以下，所述第一单元层由TiaAlbBcN构成，所述第二单元层由TidAleBfN构成，在此，满足：0.49≤a≤0.70、0.19≤b≤0.40、0.10＜c≤0.20、a+b+c＝1.00、0.39≤d≤0.60、0.29≤e≤0.50、0.10＜f≤0.20、d+e+f＝1.00、0.05≤a‑d≤0.20、以及0.05≤e‑b≤0.20，在所述第一层中，钛的原子数相对于钛、铝以及硼的原子数的合计的百分率为45％以上。
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公开(公告)号：CN115226395B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202180013641.9
申请日：2021-02-17
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 一种切削工具，具备：基材和设置在上述基材上的硬质层，上述硬质层由TiaAlbBcN所表示的化合物构成，上述TiaAlbBcN的钛元素的原子比a为0.25以上且小于0.55，上述TiaAlbBcN的铝元素的原子比b为0.45以上且小于0.75，上述TiaAlbBcN的硼元素的原子比c超过0且为0.1以下，上述原子比a、上述原子比b及上述原子比c的合计为1，上述硬质层的(200)面的X射线衍射峰的强度I(200)相对于(002)面的X射线衍射峰的强度I(002)的比I(200)/I(002)为2以上10以下，上述(002)面的X射线衍射峰的半值宽度为2度以上8度以下。
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公开(公告)号：CN119255879A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202380042501.3
申请日：2023-04-28
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
IPC: B23B27/14
Abstract: 一种切削工具，其具备基材和设置在所述基材上的覆膜，其中，所述覆膜包含第一层以及第二层，所述第二层设置在比所述第一层靠近所述基材的位置，所述第一层由第一单元层和第二单元层交替地层叠而成的多层结构构成，所述第一单元层的平均厚度为2nm以上且50nm以下，所述第二单元层的平均厚度为2nm以上且50nm以下，所述第一单元层由TiaAl1‑a‑bBbN构成，其中，满足0.30≤a≤0.50、0＜b≤0.10，所述第二单元层由TicAl1‑cN构成，其中，满足0.70≤c≤1.00，在所述第一层中，钛的原子数T2相对于钛以及铝的原子数的合计T1的百分率(T2/T1)×100为60％以上，所述第二层由第三单元层和第四单元层交替地层叠而成的多层结构构成，所述第三单元层的平均厚度为2nm以上且100nm以下，所述第四单元层的平均厚度为2nm以上且100nm以下，所述第三单元层由TidAl1‑d‑eBeN构成，所述第四单元层由TifAl1‑f‑gBgN构成，其中，满足0.25≤d
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