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公开(公告)号：CN1217219C
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN02149895.4
申请日：2002-06-12
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B26/125 , G02B13/0005
Abstract: 本发明的目的是提供一种可以把由起成像光学元件作用的单件透镜的安排误差引起的扫描线弯曲抑制到低的程度的光扫描装置，和使用所述装置的图像形成设备。为了达到上述目的，根据本发明，成像光学系统由单个透镜形成，并且在主扫描方向上入射表面和出射表面的截面形状是非弧形的，在辅助扫描方向上出射表面的光焦集中在出射表面上。在主扫描方向上出射面的非弧形状(曲度)被确定以使在辅助扫描方向上放大率均匀。
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公开(公告)号：CN1396475A
公开(公告)日：2003-02-12
申请号：CN02141317.7
申请日：2002-07-05
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B26/125 , G02B13/0005
Abstract: 在本发明中，以提供可将由作为光学扫描系统的单透镜61的偏心旋转引起的扫描线弯曲抑制成微小的光学扫描装置、以及使用了该光学扫描装置的图像形成装置为目的。为解决上述问题，在本发明中，光学扫描系统使用单透镜(61)，且设定单透镜的面形状，使该单透镜的入射面(61a)在平行于主扫描方向的轴周围发生了偏心旋转时所产生的副扫描方向的扫描线弯曲的方向与该单透镜的出射面(61b)在平行于主扫描方向的轴周围发生了偏心旋转时所产生的副扫描方向的扫描线弯曲的方向互为相反方向。
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公开(公告)号：CN1391125A
公开(公告)日：2003-01-15
申请号：CN02126286.1
申请日：2002-06-07
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B26/125 , G02B13/0005
Abstract: 本发明的目的是提供能够抑制由作为成象光学元件的单一透镜排列误差引起的扫描线弯曲到低水平的光扫描装置，和利用这种装置的图象形成设备。为了实现该目的，按照本发明，由单一透镜形成成象光学系统，并且在主扫描方向出射表面的横截面形状是弧形。在副扫描方向的功率基本上集中在主扫描方向具有弧形横截面形状的出射表面，并且在主扫描方向的弧形(曲率)被确定得使在副扫描方向的放大率均匀。
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公开(公告)号：CN101211010B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200710305402.2
申请日：2007-12-26
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 下村秀和
CPC classification number: G02B26/126 , G02B26/125
Abstract: 一种光学扫描设备和使用其的图像形成装置，所述光学扫描设备包括：光源；偏转系统；具有至少一个成像光学元件的成像光学系统，用于将由偏转系统偏转的光束成像在待扫描表面上；以及至少一个反射型光学元件，设置在成像光学元件与待扫描表面之间，其中，偏转光束依次通过成像光学元件的第一透射表面和第二透射表面，并且在被反射型光学元件反射之后，该光束随后依次通过成像光学元件的第三透射表面和第四透射表面，并且其中满足关系式其中为光束再次通过的成像光学元件在主扫描截面内的轴向合成屈光力，并且为反射型光学元件在主扫描截面内的轴向合成屈光力。
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公开(公告)号：CN101251646A
公开(公告)日：2008-08-27
申请号：CN200810005646.3
申请日：2008-02-14
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 下村秀和
CPC classification number: G02B26/105 , G02B26/0833
Abstract: 本发明涉及一种光学扫描装置和利用光学扫描装置的图像形成设备。该光学扫描装置包括：聚光光学系统，用于聚集从光源装置发射的光束；偏转装置，用于以扫描方式偏转由聚光光学系统聚集的光束；以及成像光学系统，配置为将由偏转装置以扫描方式偏转的光束成像在待扫描表面上；偏转装置具有偏转表面，所述偏转表面可在主扫描截面内往复运动，从而以扫描方式偏转来自聚光光学系统的光束，其中，当偏转表面在主扫描截面内往复运动时，偏转表面接收能够引起关于副扫描方向不对称的变形的角加速度，并且其中，聚光光学系统将来自光源装置的光束聚集到偏转表面的一个区域中，所述区域位于偏转表面的关于副扫描方向的中心线的一侧，在所述一侧，副扫描方向上的偏转表面的不对称变形的量小于另一侧的所述不对称变形的量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1239940C
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：CN03127598.2
申请日：2003-08-08
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B26/125 , G02B26/123 , G02B26/124
Abstract: 公开一种光学扫描装置，它包括一光源装置、一个用于偏转从光源装置发出的光束的偏转系统和一个用于用偏转系统偏转的光束扫描被扫描表面的光学扫描系统，其中光学扫描系统包括一个光学扫描元件，该元件被设置成相对于副扫描方向，被偏转光束的主光线通过除光轴外的一个部分，光学扫描元件具有一个矢状非球形量改变表面，在该表面中，矢状非球形量沿光学扫描元件的主扫描方向改变，在整个被扫描表面上，使被偏转光束所冲击的在副扫描方向上的位置一致，所述光学扫描系统具有一个或多个矢状曲率半径改变表面，在该表面中，矢状曲率半径沿所述光学扫描系统的主扫描方向改变。
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公开(公告)号：CN1474211A
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：CN03127598.2
申请日：2003-08-08
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B26/125 , G02B26/123 , G02B26/124
Abstract: 公开一种光学扫描装置，它包括一光源装置、一个用于偏转从光源装置发出的光束的偏转系统和一个用于用偏转系统偏转的光束扫描被扫描表面的光学扫描系统，其中光学扫描系统包括一个光学扫描元件，该元件被设置成相对于副扫描方向，被偏转光束的主光线通过除光轴外的一个部分，光学扫描元件具有一个矢状非球形量改变表面，在该表面中，矢状非球形量沿光学扫描元件的主扫描方向改变，在整个被扫描表面上，使被偏转光束所冲击的在副扫描方向上的位置一致。
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公开(公告)号：CN102289070A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201110158275.4
申请日：2011-06-14
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 下村秀和
CPC classification number: G02B26/124 , B29D11/00971 , B29L2011/0016
Abstract: 本发明涉及制造成像光学元件的方法和光扫描设备。在该方法中，该成像光学元件使多个光束进入偏转单元并且将那些光束引导到对应的待扫描表面，所述成像光学元件被光学地布置在相同的位置处并且具有相同的光学性能，该方法包括：对于具有相同光学性能的成像光学元件，在不同的光束通过状态的多个位置中的每一个位置处测量光学性能；基于与成像光学元件的光学功能表面的设计值的偏差量来计算成像光学元件的光学功能表面的校正形状；基于光学功能表面的校正形状来对与成像光学元件的光学功能表面对应的用于成型的模子的镜面加工镶嵌件的形状执行校正加工；以及通过使用经受校正加工的镜面加工镶嵌件来执行成型。
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公开(公告)号：CN101251646B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200810005646.3
申请日：2008-02-14
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 下村秀和
CPC classification number: G02B26/105 , G02B26/0833
Abstract: 本发明涉及一种光学扫描装置和利用光学扫描装置的图像形成设备。该光学扫描装置包括：聚光光学系统，用于聚集从光源装置发射的光束；偏转装置，用于以扫描方式偏转由聚光光学系统聚集的光束；以及成像光学系统，配置为将由偏转装置以扫描方式偏转的光束成像在待扫描表面上；偏转装置具有偏转表面，所述偏转表面可在主扫描截面内往复运动，从而以扫描方式偏转来自聚光光学系统的光束，其中，当偏转表面在主扫描截面内往复运动时，偏转表面接收能够引起关于副扫描方向不对称的变形的角加速度，并且其中，聚光光学系统将来自光源装置的光束聚集到偏转表面的一个区域中，所述区域位于偏转表面的关于副扫描方向的中心线的一侧，在所述一侧，副扫描方向上的偏转表面的不对称变形的量小于另一侧的所述不对称变形的量。
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公开(公告)号：CN1402040A
公开(公告)日：2003-03-12
申请号：CN02142203.6
申请日：2002-08-23
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B13/0005 , G02B26/125
Abstract: 本发明公开了一种扫描光学器件以及使用该器件的成像设备，其中该扫描光学器件包括由单透镜提供的扫描光学元件。关于在光轴上沿着副扫描方向具有较大折射能力的单透镜的两个光学表面中的预定一个，确定该单透镜的光学表面的形状以满足下式：0.9≤φm/φp≤φmx/φpx＝1.0≤1.1φm/φp其中φp为单透镜在光轴上沿着副扫描方向的折射能力，φm为单透镜在最离轴处沿着副扫描方向的折射能力，φpx为在光轴上沿着副扫描方向在单透镜的预定光学表面处的折射能力，φmx为在最离轴处沿着副扫描方向在单透镜的预定光学表面处的折射能力。
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