发光体基板和使用发光体基板的图像显示装置

    公开(公告)号:CN101667519A

    公开(公告)日:2010-03-10

    申请号:CN200910170664.1

    申请日:2009-09-01

    Inventor: 井上晋宏

    CPC classification number: H01J31/127 H01J29/085 H01J2329/08 Y10T428/2457

    Abstract: 本发明涉及发光体基板和使用发光体基板的图像显示装置。为了提供特征在于放电电流降低性能优异的发光体基板,在基板上沿X方向和Y方向配置多个荧光体,在荧光体上配置金属背,在沿X方向相邻的荧光体之间配置沿Y方向延伸的肋板,分别在肋板上形成电连接沿Y方向相邻的金属背的第一电阻器,并且,分别在肋板下面形成电连接沿X方向相邻的金属背的第二电阻器。

    光学设备以及物品制造方法

    公开(公告)号:CN112496527B

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202010847078.2

    申请日:2020-08-21

    Inventor: 井上晋宏

    Abstract: 公开了光学设备以及物品制造方法。在能够调整激光的焦点位置的光学设备中,提高了激光处理的精度。一种通过用激光照射对象来处理对象的光学设备,包括:焦点位置调整机构,被配置成调整激光的焦点位置;入射位置调整机构,被配置成在与激光的焦点方向垂直的方向上调整入射在对象上的激光的入射位置;以及控制单元,被配置成控制焦点位置调整机构和入射位置调整机构的驱动,其中,控制单元基于焦点位置调整机构的驱动量来控制入射位置调整机构的驱动,以校正由于焦点位置的改变而引起的入射位置的移位。

    图像显示设备
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102332381A

    公开(公告)日:2012-01-25

    申请号:CN201110190029.7

    申请日:2011-07-08

    Abstract: 本申请涉及一种图像显示设备,其包括面板,所述面板包括公共电极、n个第一电阻器构件、和第二电阻器构件,所述公共电极在图像区域外部沿着图像区域的一边延伸,所述n个第一电阻器构件连接至公共电极并连接至与其对应的分割区域中的每个阳极,所述第二电阻器构件连接在第一电阻器构件中的一个与另一个之间。R1是每个第一电阻器构件的每一个像素长度的平均电阻值,所述一个像素包括至少一个发光构件。R1all是每个第一电阻器构件的在图像区域中的总长度的电阻值。R2是第二电阻器构件的电阻值。并且,满足关系0.1×R1<R2<R1all。

    发光基板、显示板和图像显示装置

    公开(公告)号:CN101882550A

    公开(公告)日:2010-11-10

    申请号:CN201010170099.1

    申请日:2010-05-04

    CPC classification number: H01J29/04 H01J29/085 H01J31/127

    Abstract: 本发明提供一种发光基板、显示板和图像显示装置。所述发光基板包含:基板;按矩阵布置在所述基板上的多个发光部件;以及按矩阵布置在所述多个发光部件之上的多个金属背。在所述多个金属背中的每一行或每一列中,两个相邻金属背通过电阻部件相互连接。具有比电阻部件低的电阻值的导电部件与电阻部件的一部分连接,所述部分与所述两个相邻金属背间隔开。

    光学设备以及物品制造方法

    公开(公告)号:CN112496527A

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN202010847078.2

    申请日:2020-08-21

    Inventor: 井上晋宏

    Abstract: 公开了光学设备以及物品制造方法。在能够调整激光的焦点位置的光学设备中,提高了激光处理的精度。一种通过用激光照射对象来处理对象的光学设备,包括:焦点位置调整机构,被配置成调整激光的焦点位置;入射位置调整机构,被配置成在与激光的焦点方向垂直的方向上调整入射在对象上的激光的入射位置;以及控制单元,被配置成控制焦点位置调整机构和入射位置调整机构的驱动,其中,控制单元基于焦点位置调整机构的驱动量来控制入射位置调整机构的驱动,以校正由于焦点位置的改变而引起的入射位置的移位。

    发光体基板和使用发光体基板的图像显示装置

    公开(公告)号:CN101667519B

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN200910170664.1

    申请日:2009-09-01

    Inventor: 井上晋宏

    CPC classification number: H01J31/127 H01J29/085 H01J2329/08 Y10T428/2457

    Abstract: 本发明涉及发光体基板和使用发光体基板的图像显示装置。为了提供特征在于放电电流降低性能优异的发光体基板,在基板上沿X方向和Y方向配置多个荧光体,在荧光体上配置金属背,在沿X方向相邻的荧光体之间配置沿Y方向延伸的肋板,分别在肋板上形成电连接沿Y方向相邻的金属背的第一电阻器,并且,分别在肋板下面形成电连接沿X方向相邻的金属背的第二电阻器。

    检测设备、校正设备、处理设备、以及物品制造方法

    公开(公告)号:CN116067621A

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202211322170.2

    申请日:2022-10-27

    Abstract: 本发明公开了检测设备、校正设备、处理设备、以及物品制造方法。提供了能够准确地检测关于激光的光轴的位置信息并且减小测量误差的检测设备,包括:第一分割单元,所述第一分割单元被配置为将从光源输出的激光分割成多个光束;检测单元,所述检测单元被配置为检测所述多个光束中的每一个的位置;光引导单元,所述光引导单元被配置为将多个分割的光束以彼此不同的光学路径长度引导到所述检测单元;以及控制单元,所述控制单元被配置为基于所述检测单元检测的所述多个光束中的每一个的位置的差异计算激光的角度偏差或位置偏差,其中所述检测单元是检测所述光引导单元引导的所述多个光束中的每一个的位置的一个传感器。

    光学装置、加工装置及物品制造方法

    公开(公告)号:CN107797270B

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN201710759642.3

    申请日:2017-08-30

    Abstract: 公开了光学装置、加工装置及物品制造方法。该光学装置包括:包括第一反射表面和第二反射表面的可旋转反射部件;光学系统,包括多个反射表面并且被配置为在该多个反射表面处依次反射已经于第一反射表面处反射的光以使光入射到第二反射表面上;驱动部分,被配置为改变反射部件的角度;控制单元,被配置为控制驱动部分以改变在于第二反射表面处反射之后从反射部件发射出的光的路径;以及光入射部分,被配置为识别已经在第一反射表面处反射的光的位置。

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