公开(公告)号：CN108472876B

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201680075034.4

申请日：2016-12-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 宇佐美博一 ,  多田达也 ,  辛岛贤司 ,  阿南严也 ,  加濑崇 ,  山中理 ,  若林佑士

IPC: B29C64/386 ,  B33Y50/00

Abstract: 一种模制系统包括切片数据产生单元和层压单元，切片数据产生单元被配置为从三维模型的三维形状数据产生切片数据，层压单元被配置为基于切片数据来层压模制材料的层。切片数据产生单元对切片数据中包括的第i层(i是正整数)数据和第i+1层数据进行分析，并且如果其中不同于第一模制材料的第二模制材料的层将被层压在第一模制材料的层上并且其中难以对层进行层压的区域被提取，则将第i层和第i+1层中的至少一个层的所述区域的数据修改为其中第一模制材料和第二模制材料混合的数据。

公开(公告)号：CN116601783A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202180081689.3

申请日：2021-12-03

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 谷内洋 ,  久保健太 ,  宇佐美博一 ,  青谷贵治

IPC: H01M4/13

Abstract: 一种固态二次电池，其包括：在层厚度方向上具有多个活性物质颗粒的活性物质层，与活性物质颗粒进行活性物质离子传递的电解质层，以及与活性物质颗粒进行电子传递的集流体层。所述活性物质层在层厚度方向上具有第一区域，在该第一区域中所述活性物质颗粒的比表面积低于在层厚度方向上的另一区域中的比表面积。

公开(公告)号：CN108472876A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201680075034.4

申请日：2016-12-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 宇佐美博一 ,  多田达也 ,  辛岛贤司 ,  阿南严也 ,  加濑崇 ,  山中理 ,  若林佑士

IPC: B29C64/386 ,  B33Y50/00

Abstract: 一种模制系统包括切片数据产生单元和层压单元，切片数据产生单元被配置为从三维模型的三维形状数据产生切片数据，层压单元被配置为基于切片数据来层压模制材料的层。切片数据产生单元对切片数据中包括的第i层(i是正整数)数据和第i+1层数据进行分析，并且如果其中不同于第一模制材料的第二模制材料的层将被层压在第一模制材料的层上并且其中难以对层进行层压的区域被提取，则将第i层和第i+1层中的至少一个层的所述区域的数据修改为其中第一模制材料和第二模制材料混合的数据。

公开(公告)号：CN101135879A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200710112584.1

申请日：2007-06-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西田真一 ,  楸原一成 ,  清水康史 ,  横山胜则 ,  吉岛直人 ,  宇佐美博一

IPC: G03G15/08 ,  G03G21/18 ,  G03G15/00

Abstract: 利用通过在纵向上弯曲片状调节构件产生的弹性力和由于显影辊的挤压而接收到的力，通过调节单元来支撑片状调节构件。由此，可以与显影剂承载构件进行牢固的接触，并且可以提供一种调节构件，其能够容易地安装到支撑构件上，并能够减小显影装置、处理盒和成像设备的尺寸。

公开(公告)号：CN101763012A

公开(公告)日：2010-06-30

申请号：CN200910261677.X

申请日：2007-06-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西田真一 ,  楸原一成 ,  清水康史 ,  横山胜则 ,  吉岛直人 ,  宇佐美博一

IPC: G03G15/08

CPC classification number: G03G15/0812

Abstract: 利用通过在纵向上弯曲片状调节构件产生的弹性力和由于显影辊的挤压而接收到的力，通过调节单元来支撑片状调节构件。由此，可以与显影剂承载构件进行牢固的接触，并且可以提供一种调节构件，其能够容易地安装到支撑构件上，并能够减小显影装置、处理盒和成像设备的尺寸。

公开(公告)号：CN101634826A

公开(公告)日：2010-01-27

申请号：CN200910161909.4

申请日：2007-06-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西田真一 ,  楸原一成 ,  清水康史 ,  横山胜则 ,  吉岛直人 ,  宇佐美博一

IPC: G03G15/08 ,  G03G21/18 ,  G03G15/00

Abstract: 利用通过在纵向上弯曲片状调节构件产生的弹性力和由于显影辊的挤压而接收到的力，通过调节单元来支撑片状调节构件。由此，可以与显影剂承载构件进行牢固的接触，并且可以提供一种调节构件，其能够容易地安装到支撑构件上，并能够减小显影装置、处理盒和成像设备的尺寸。

公开(公告)号：CN116601791A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202180084514.8

申请日：2021-12-14

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 青谷贵治 ,  久保健太 ,  谷内洋 ,  宇佐美博一

IPC: H01M4/36

Abstract: 用于活性物质层的活性物质颗粒，其包括含有活性物质的颗粒部和覆盖所述颗粒部的表面的保护层。

公开(公告)号：CN101763012B

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN200910261677.X

申请日：2007-06-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西田真一 ,  楸原一成 ,  清水康史 ,  横山胜则 ,  吉岛直人 ,  宇佐美博一

IPC: G03G15/08

CPC classification number: G03G15/0812

Abstract: 利用通过在纵向上弯曲片状调节构件产生的弹性力和由于显影辊的挤压而接收到的力，通过调节单元来支撑片状调节构件。由此，可以与显影剂承载构件进行牢固的接触，并且可以提供一种调节构件，其能够容易地安装到支撑构件上，并能够减小显影装置、处理盒和成像设备的尺寸。

公开(公告)号：CN101634826B

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN200910161909.4

申请日：2007-06-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西田真一 ,  楸原一成 ,  清水康史 ,  横山胜则 ,  吉岛直人 ,  宇佐美博一

IPC: G03G15/08 ,  G03G21/18 ,  G03G15/00

Abstract: 利用通过在纵向上弯曲片状调节构件产生的弹性力和由于显影辊的挤压而接收到的力，通过调节单元来支撑片状调节构件。由此，可以与显影剂承载构件进行牢固的接触，并且可以提供一种调节构件，其能够容易地安装到支撑构件上，并能够减小显影装置、处理盒和成像设备的尺寸。