在聚合过程中防止聚合物积垢的方法

    公开(公告)号:CN1045399A

    公开(公告)日:1990-09-19

    申请号:CN90101976.3

    申请日:1990-03-01

    CPC classification number: C08F2/004

    Abstract: 一种防止带烯双键单体在聚合期间生成的聚合物结垢而沉积于聚合釜里的方法,该聚合反应在内壁已经先涂敷过涂敷液并干燥形成涂层的聚合釜中进行,涂敷液含有(A)单宁和(B)水溶性聚合物。一种包含组分(A)和组分(B)的防垢剂;一种内壁具有上述涂层的聚合釜。它可以有效地防止聚合物结垢而沉积于聚合釜的内壁等上面。

    防止聚合物结垢的方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1040596A

    公开(公告)日:1990-03-21

    申请号:CN89106490.7

    申请日:1989-08-18

    CPC classification number: C08F2/004

    Abstract: 一种可在含有乙烯基双键的单体聚合中防止聚合物在聚合釜中结垢的方法,所述聚合反应是在聚合釜中进行的,该聚合釜的内壁面预先用涂层溶液涂层,并干燥形成了涂层,该涂层溶液的pH值大于7并且含有(A)至少一种选自特定的阴离子染料、由特定芳香胺化合物与特定芳香族硝基化合物的缩合物磺化的磺化产物的咸金属盐和铵盐;和(B)一种特定的阳离子染料。这方法可有效地防止乙烯基双键单体聚合中形成聚合物垢皮,故可重复进行100次或更多次聚合反应而不会使聚合物结垢。

    防止形成聚合物结壁的方法及其使用的聚合设备

    公开(公告)号:CN1035057C

    公开(公告)日:1997-06-04

    申请号:CN89105545.2

    申请日:1989-08-09

    CPC classification number: C08F2/004

    Abstract: 一种在具有烯类双键单体的聚合反应过程中,防止聚合反应器内形成聚合物结壁的方法,其中所述聚合反应在其内壁表面事先涂有水基涂层溶液然后经干燥形成涂层的聚合反应器中进行,该水基涂层溶液含有组分(A)一种水溶性阴离子染料和组分(B)从水不溶性的阳离子染料和水不溶性的含氮有机化合物中选出的至少一种化合物,涂层溶液的pH为7或7以下。本方法可以在广泛的具有烯类双键的单体聚合反应时,有效防止形成聚合物结壁。

    氯乙烯聚合物的生产方法

    公开(公告)号:CN1006386B

    公开(公告)日:1990-01-10

    申请号:CN85107531

    申请日:1985-07-22

    Abstract: 本发明涉及由氯乙烯单体或氯乙烯单体与一种可以和所说的氯乙烯单体共聚的乙烯基单体的混合物,在水介质中经悬浮聚合或乳液聚合生产氯乙烯聚合物的方法。其特征在于,聚合在这样的聚合釜中进行:其内壁表面及在聚合过程中有可能与单体接触的附属设备部分预先涂覆有一种防垢剂,该防结垢剂包括至少一种选自染料、颜料和含至少5个共轭π键的芳香族或杂环化合物的物质,同时控制反应混合物中的氯离子浓度不高于100ppm。按这种方法,可以有效和可靠地防止聚合过程中在聚合釜等设备的内壁表面上的结垢。

    一种阻止形成聚合物氧化皮的方法

    公开(公告)号:CN1023324C

    公开(公告)日:1993-12-29

    申请号:CN88109232

    申请日:1988-12-08

    Abstract: 一种阻止聚合物氧化皮在带有双键的烯类单体进行聚合过程中粘附在聚合釜中的方法,其中所说的聚合是在聚合釜中进行的,聚合釜的内壁以及在聚合中能与单体接触的其他部位首先用含有阳离子染料的溶液(a)涂覆,所形成的涂层再用含有至少一种选自阴离子聚合物合物,两性聚合组合物和含羟基的有机化合物的组份的溶液(b)涂覆。本方法可以有效地阻止聚合物氧化皮的形成。

    防止形成聚合物结壁的方法

    公开(公告)号:CN1040206A

    公开(公告)日:1990-03-07

    申请号:CN89105545.2

    申请日:1989-08-09

    CPC classification number: C08F2/004

    Abstract: 一种在具有烯类双键单体的聚合反应过程中,防止聚合反应器内形成聚合物结壁的方法,其中所述聚合反应在其内壁表面事先涂有水基涂层溶液然后经干燥形成涂层的聚合反应器中进行,该水基涂层溶液含有组分(A)一种水溶性阴离子染料和组分(B)从水不溶性的阳离子染料和水不溶性的含氮有机化合物中选出的至少一种化合物,涂层溶液的pH为7或7以下。本方法可以在广泛的具有烯类双键的单体聚合反应时,有效防止形成聚合物结壁。

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