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公开(公告)号：CN104321540B
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201380026238.5
申请日：2013-04-04
Applicant: 全面熔合有限公司
Inventor： 维多利亚·苏波尼斯基 , 桑德拉·朱斯蒂娜·巴尔斯基 , J·迈克尔·G·拉伯齐 , 道格拉斯·哈维·理查森 , 彼得·莱谢克·科斯特卡
CPC classification number: B05B1/26 , F15D1/0005 , F15D1/08 , F17D1/00 , G21B3/008 , H05H1/24 , H05H2277/13 , Y10T137/0318 , Y10T137/86163
Abstract: 描述了一种射流控制设备的示例。该射流控制设备可以包括射流偏转构件，该射流偏转构件构造成拦截自射流形成位置出现的高速射流和/或与该高速射流相撞。射流偏转构件与射流的相互作用可以促使高速射流散布成具有许多流动方向的多股射流，该许多流动方向相对于高速射流的初始方向可能是偏斜的。在一种实施方式中，偏转构件可以包括通过将流体射出出口喷嘴而形成的液体导引部，使得该液体导引部远离出口喷嘴纵向地延伸。在另一实施方式中，偏转构件可以包括沿高速射流出现的方向通过出口注射的固体颗粒的阵列，此阵列构造为与出现的射流相撞从而使该射流的初始方向偏转。
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公开(公告)号：CN104321540A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201380026238.5
申请日：2013-04-04
Applicant: 全面熔合有限公司
Inventor： 维多利亚·苏波尼斯基 , 桑德拉·朱斯蒂娜·巴尔斯基 , J·迈克尔·G·拉伯齐 , 道格拉斯·哈维·理查森 , 彼得·莱谢克·科斯特卡
CPC classification number: B05B1/26 , F15D1/0005 , F15D1/08 , F17D1/00 , G21B3/008 , H05H1/24 , H05H2277/13 , Y10T137/0318 , Y10T137/86163
Abstract: 本发明描述了一种射流控制设备的示例。该射流控制设备可以包括射流偏转构件，该射流偏转构件构造成拦截自射流形成位置出现的高速射流和/或与该高速射流相撞。射流偏转构件与射流的相互作用可以促使高速射流散布成具有许多流动方向的多股射流，该许多流动方向相对于高速射流的初始方向可能是偏斜的。在一种实施方式中，偏转构件可以包括通过将流体射出出口喷嘴而形成的液体导引部，使得该液体导引部远离出口喷嘴纵向地延伸。在另一实施方式中，偏转构件可以包括沿高速射流出现的方向通过出口注射的固体颗粒的阵列，此阵列构造为与出现的射流相撞从而使该射流的初始方向偏转。
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