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公开(公告)号:CN101694370A
公开(公告)日:2010-04-14
申请号:CN200910092676.7
申请日:2009-09-15
Applicant: 北京信息科技大学
Abstract: 本发明公开了一种大尺寸工业摄影测量系统的精度评价方法及基准装置,包括:采用激光跟踪仪从基准装置中获取到反射靶点的第一三维坐标信息,所述第一三维坐标信息形成空间基准场;采用摄影测量系统从所述基准装置中获取到反射靶点的第二三维空间坐标信息,所述第二三维空间坐标信息形成空间测量场;通过所述空间基准场和所述空间测量场获取空间误差场。本发明提供的大尺寸工业摄影测量系统的精度评价方法及基准装置,根据空间基准场和空间测量场获取到空间误差场,通过空间误差场分析摄影测量系统中的误差来源,进一步提高摄影测量系统在大尺寸工业摄影测量中的测量精度。
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公开(公告)号:CN101694370B
公开(公告)日:2011-09-21
申请号:CN200910092676.7
申请日:2009-09-15
Applicant: 北京信息科技大学
Abstract: 本发明公开了一种大尺寸工业摄影测量系统的空间误差场获取方法及基准装置,包括:采用激光跟踪仪从基准装置中获取到反射靶点的第一三维坐标信息,所述第一三维坐标信息形成空间基准场;采用摄影测量系统从所述基准装置中获取到反射靶点的第二三维空间坐标信息,所述第二三维空间坐标信息形成空间测量场;通过所述空间基准场和所述空间测量场获取空间误差场。本发明提供的大尺寸工业摄影测量系统的空间误差场获取方法及基准装置,根据空间基准场和空间测量场获取到空间误差场,通过空间误差场分析摄影测量系统中的误差来源,进一步提高摄影测量系统在大尺寸工业摄影测量中的测量精度。
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