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公开(公告)号:CN118059318A
公开(公告)日:2024-05-24
申请号:CN202410193366.9
申请日:2024-02-21
Applicant: 北京化工大学
IPC: A61L27/40 , A61L27/18 , A61L27/36 , A61L27/58 , A61L27/54 , A61L27/56 , D04H1/728 , D04H1/559 , D04H1/558 , D04H1/56 , D04H1/55 , A61F2/00
Abstract: 本发明公开一种多层可吸收人工硬脑膜修补片及其制备方法,其中硬脑膜修补片包括脑膜层、载药层、骨膜层和促生层,脑膜层由熔体静电纺丝法或熔体喷纺法制备,具有疏水性和各向同性结构;载药层由熔体静电直写或熔体3D打印制备,起到促进神经修复和伤口愈合的作用;骨膜层由熔体静电纺丝法或熔体喷纺法制备,具有亲水性和各项异性结构,促生层通过溶液浇铸法或涂布法制备,提高硬脑膜生物相容性并促进细胞生长和繁殖,各层之间通过热压或超声焊接进行粘合。本发明所制备的硬脑膜修补片具有仿生结构、无溶剂、强度高和生物相容性好等优点,避免了传统硬脑膜修补片制备技术存在污染环境、生物相容性差以及溶液静电纺丝存在溶剂有毒且难以去除等问题。
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公开(公告)号:CN118059318B
公开(公告)日:2024-09-20
申请号:CN202410193366.9
申请日:2024-02-21
Applicant: 北京化工大学
IPC: A61L27/40 , A61L27/18 , A61L27/36 , A61L27/58 , A61L27/54 , A61L27/56 , D04H1/728 , D04H1/559 , D04H1/558 , D04H1/56 , D04H1/55 , A61F2/00
Abstract: 本发明公开一种多层可吸收人工硬脑膜修补片及其制备方法,其中硬脑膜修补片包括脑膜层、载药层、骨膜层和促生层,脑膜层由熔体静电纺丝法或熔体喷纺法制备,具有疏水性和各向同性结构;载药层由熔体静电直写或熔体3D打印制备,起到促进神经修复和伤口愈合的作用;骨膜层由熔体静电纺丝法或熔体喷纺法制备,具有亲水性和各项异性结构,促生层通过溶液浇铸法或涂布法制备,提高硬脑膜生物相容性并促进细胞生长和繁殖,各层之间通过热压或超声焊接进行粘合。本发明所制备的硬脑膜修补片具有仿生结构、无溶剂、强度高和生物相容性好等优点,避免了传统硬脑膜修补片制备技术存在污染环境、生物相容性差以及溶液静电纺丝存在溶剂有毒且难以去除等问题。
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