一种场反位形等离子体中的磁场测量方法

    公开(公告)号:CN111337863A

    公开(公告)日:2020-06-26

    申请号:CN202010175193.X

    申请日:2020-03-13

    Abstract: 本发明提供一种场反位形(FRC)等离子体中的磁场测量方法,该方法采用激光离子束轨迹探针(LITP)来测量FRC等离子体中的磁场,激光离子加速器产生的离子束经准直器入射至场反位形装置;测量不同能量的离子在所述场反位形等离子体中的磁场中的环向偏转角(Φt-2α0)、轴向位移Z以及飞行时间T;确定所述环向偏转角(Φt-2α0)、所述轴向位移Z以及所述飞行时间T与所述场反位形等离子体中的磁场的极向磁场剖面的定量关系,非线性重构所述极向磁场剖面。本发明的方法(LITP)能够针对具体给定的FRC位形,给出LITP诊断磁场的误差水平、LITP样机的关键参数及系统框架等。

    飞秒激光加工的等离子体约束引出系统、方法和装置

    公开(公告)号:CN116475597A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202310467989.6

    申请日:2023-04-26

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种用于飞秒激光加工的等离子体约束引出系统、方法和装置,系统包括电场模块和样品台固定盒;电场模块包括阴极、阳极以及用于容纳阴极和所述阳极的第一盒体;第一盒体和阴极上设有位置对应的加工激光过孔;样品台固定盒和连接在第一盒体靠近所述阳极的一端。本发明通过采用阴阳电极和磁场线圈(可选)在飞秒激光加工材料表面的周围空间产生电磁场的方式,利用等离子体中的带电粒子在电磁场中受到的电场力、磁场力,约束飞秒激光加工过程中瞬时产生的等离子体,并将其引出,使其迅速离开被加工材料表面,避免加工激光脉冲消失时,等离子体复合并在被加工材料表面形成重铸层,有效减少飞秒激光加工中的重铸层厚度。

    一种等离子体密封装置及密封方法

    公开(公告)号:CN113015310A

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN202110207537.5

    申请日:2021-02-25

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供一种等离子体密封装置及密封方法,等离子体密封装置包括级联电弧放电装置以及与其连接的真空系统,级联电弧放电装置的放电通道的横截面为类矩形狭缝,放电通道由铜板构成,相邻铜板之间绝缘间隔,放电通道的两端分别为阴极和阳极,阴极包括多个放电针,放电针的尖端与放电通道的中心位置对准。该装置利用级联电弧放电产生的等离子体实现横截面积较大的矩形狭缝两端高低真空间的隔离。在直流电源的支持下,本发明可实现几厘米长的级联电弧放电,本发明的放电通道的深度为60mm,横截面的长度为35mm,宽度为3mm。本发明的等离子体密封装置及密封方法能够维持等离子体窗两侧高低气压端10倍以上的压降。

    一种场反位形等离子体中的磁场测量方法

    公开(公告)号:CN111337863B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202010175193.X

    申请日:2020-03-13

    Abstract: 本发明提供一种场反位形(FRC)等离子体中的磁场测量方法,该方法采用激光离子束轨迹探针(LITP)来测量FRC等离子体中的磁场,激光离子加速器产生的离子束经准直器入射至场反位形装置;测量不同能量的离子在所述场反位形等离子体中的磁场中的环向偏转角(Φt‑2α0)、轴向位移Z以及飞行时间T;确定所述环向偏转角(Φt‑2α0)、所述轴向位移Z以及所述飞行时间T与所述场反位形等离子体中的磁场的极向磁场剖面的定量关系,非线性重构所述极向磁场剖面。本发明的方法(LITP)能够针对具体给定的FRC位形,给出LITP诊断磁场的误差水平、LITP样机的关键参数及系统框架等。

    一种用于缓解磁约束聚变装置中偏滤器热负荷的等离子体窗结构

    公开(公告)号:CN220232739U

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202321485484.4

    申请日:2023-06-12

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于缓解磁约束聚变装置中偏滤器热负荷的等离子体窗结构,所述磁约束聚变装置包括主真空室和偏滤器室,所述偏滤器室设有偏滤器靶板,偏滤器室喉部宽度收窄,且在偏滤器室喉部收窄的位置和主真空室之间构造有狭长区域形成等离子体窗,所述偏滤器室设有充气孔用于向偏滤器靶板所在区域充入中性气体形成等离子体窗的高气压端。该结构可以在保持主真空室所需的中性气压的同时,增加偏滤器靶板附近的中性气压,形成一个高压气体靶,阻挡来自上游的粒子流和热流,有效缓解靶板的高热负荷。

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