公开(公告)号：CN117540547A

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202311491502.4

申请日：2023-11-09

Applicant: 北京航空航天大学宁波创新研究院

Inventor： 崔培玲 ,  刘嘉文 ,  赵霁野 ,  李衍宾 ,  杨周强 ,  王樱骏 ,  李玉鹏

IPC: G06F30/20 ,  G06N3/006

Abstract: 本发明公开了一种基于广义镜像法和粒子群算法的磁屏蔽舱内轴向多对方形均匀线圈优化设计方法。首先基于毕奥萨伐尔定律建立一对方形线圈对在空间内的磁场计算模型，并通过引入广义镜像法来解决由于均匀线圈与磁屏蔽舱铁磁边界耦合带来的磁场均匀度降低的问题。然后通过PSO(Particle Swarm Optimization)算法对线圈结构进行优化设计，在目标区域选取多个目标点，通过计算线圈在目标点产生的磁场，进而计算得到磁场均匀度作为优化目标函数，以各个轴向线圈的位置为未知参数，通过PSO算法进行优化，以使得目标区域的磁场均匀度最大化。本发明能够有效提高磁屏蔽舱内轴向多对方形均匀线圈产生磁场的均匀性。

公开(公告)号：CN115329653A

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN202211017095.9

申请日：2022-08-23

Applicant: 北京航空航天大学宁波创新研究院

Inventor： 赵修琪 ,  张露 ,  卢颜 ,  赵霁野 ,  田鹏涛 ,  张迪

IPC: G06F30/25 ,  G06F17/11 ,  G06F17/15 ,  G06N3/00

Abstract: 本发明提供了一种基于多重镜像法的大均匀区双平面线圈设计方法，涉及磁屏蔽补偿技术领域，本方法包括步骤S1：通过高磁导率材料的无限大的表面反射磁源和磁性材料，将磁屏蔽箱的屏蔽层看作无限大的平面，产生镜像电流，镜像电流被其他屏蔽层反复镜像；S2：建立实际电流与镜像电流的关系；S3：基于双平面的电流在Q点处从空气中进入到屏蔽层中并发生折射，折射角为45°，电流在屏蔽层内W点处发生反射，在G点处从屏蔽层中进入到空气中，折射角为θ，R点是电流经屏蔽层的反射后的位置点。本方法能够在保证磁屏蔽室空间利用率的前提下，提高线圈的均匀度和均匀度，从而实现降低磁屏蔽室研制成本和重量。