一种大规模制备高氮比的g-C3N4纳米管阵列及其制备方法

    公开(公告)号:CN119528095A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411712772.8

    申请日:2024-11-27

    Abstract: 本发明属于半导体纳米材料制备技术领域,公开了一种大规模制备高氮比的g‑C3N4纳米管阵列及其制备方法,制备方法包括以下步骤:(1)利用尿素配制单氮源混合溶液;(2)加入硫酸羟胺得到多氮源混合溶液;(3)再加入三聚氰胺得到多氮源混合三聚氰胺体系的分散液;(4)进行水热反应,并对反应产物清洗、干燥,即可得到多氮源掺杂三聚氰胺的前驱体粉末,它具有纳米柱状阵列结构;(5)煅烧得到高氮比的g‑C3N4纳米管阵列纳米材料。本发明无需借助刚性模板诱导辅助合成即可得到g‑C3N4纳米管阵列材料,能够解决现有技术中操作过程复杂、危险、产物纯度低、耗时及产量低的缺点和不足的问题。

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