公开(公告)号：CN113281013A

公开(公告)日：2021-08-20

申请号：CN202110573545.1

申请日：2021-05-25

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 周敏康 ,  罗覃 ,  马肖杰 ,  张恒 ,  陈乐乐 ,  胡忠坤

IPC: G01M11/02 ,  G01J9/00 ,  G01J9/02

Abstract: 本发明公开了一种用于真空环境下测量光学元件面形的装置及方法，装置包括真空腔体、调节单元、真空测量单元和面形测量单元，真空腔体用于及安装调节单元和光学元件，并提供真空环境；调节单元用于安装光学元件，以及实现测试元件的水平移动和俯仰调节；光学元件包含参考反射镜和待测光学元件，参考反射镜用于提供高质量的面形参考，待测光学元件是需要被测量的光学元件；真空测量单元用于测量真空腔体的真空度；面形测量单元用于测量激光波前。该装置可以对安装在真空环境中的光学元件面形进行测量，并且可以改变真空腔体的压强，在不同压强下测量光学元件面形。

公开(公告)号：CN113281013B

公开(公告)日：2022-08-05

申请号：CN202110573545.1

申请日：2021-05-25

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 周敏康 ,  罗覃 ,  马肖杰 ,  张恒 ,  陈乐乐 ,  胡忠坤

IPC: G01M11/02 ,  G01J9/00 ,  G01J9/02

Abstract: 本发明公开了一种用于真空环境下测量光学元件面形的装置及方法，装置包括真空腔体、调节单元、真空测量单元和面形测量单元，真空腔体用于及安装调节单元和光学元件，并提供真空环境；调节单元用于安装光学元件，以及实现测试元件的水平移动和俯仰调节；光学元件包含参考反射镜和待测光学元件，参考反射镜用于提供高质量的面形参考，待测光学元件是需要被测量的光学元件；真空测量单元用于测量真空腔体的真空度；面形测量单元用于测量激光波前。该装置可以对安装在真空环境中的光学元件面形进行测量，并且可以改变真空腔体的压强，在不同压强下测量光学元件面形。