公开(公告)号：CN107336150A

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201710647488.0

申请日：2017-08-01

Applicant: 华侨大学

Inventor： 黄国钦 ,  易了 ,  穆德魁 ,  黄辉 ,  郭桦 ,  徐西鹏

IPC: B24D7/06 ,  B24D18/00

CPC classification number: B24D7/06 ,  B24D18/0072

Abstract: 本发明提供了一种沉积制备磨粒图案分布磨盘的方法，所述的磨盘为包括但不限于磨轮、砂轮、端面磨盘、滚轮、修整器、CMP修整器、磨垫、钻头，包含以下步骤：1)确定临时覆盖层的厚度；2)根据磨粒图案的分布对临时覆盖层进行镂空处理；3)将临时覆盖层覆于磨盘基体上；4)通过沉积方式将磨粒与结合剂填入镂空处，通过临时覆盖层厚度确定结合剂厚度；5)移除临时覆盖层，得到所需磨粒图案排布的磨盘。本发明目提供了一种沉积制备磨粒图案分布磨盘的方法，能够便捷高效实现磨粒定位又能实现结合剂厚度控制，并且根据本方法所制得的磨盘磨粒等高性比传统方法提高至少21％。